[发明专利]靶、成膜装置和成膜对象物的制造方法

权利要求书

1.一种靶，具备：

靶构件，形成为筒形状；以及

支撑构件，支撑所述靶构件，其中，

所述支撑构件具有经由粘接构件与所述靶构件相接的壁部，

所述壁部具有以第一厚度形成的第一部位、以比所述第一厚度厚的第二厚度形成的第二部位和以所述第一厚度形成的第三部位，

所述第二部位被所述第一部位和所述第三部位夹在中间，

所述第一部位和所述第三部位相对于与所述筒形状的中心线正交且将所述靶构件二等分的假想面呈对称配置。

2.如权利要求1所述的靶，其中，所述第二部位包括比所述第一厚度厚且比所述第二厚度薄的凹部。

3.如权利要求1所述的靶，其中，所述靶构件由圆筒形状构成。

4.一种成膜装置，具备：

保持部，保持成膜对象物；

等离子体生成部，生成等离子体；

靶，设置在所述保持部与所述等离子体生成部之间；以及

固定部，固定所述靶，其中，

所述靶具有形成为筒形状的靶构件和支撑所述靶构件的支撑构件，

所述支撑构件包括经由粘接构件与所述靶构件相接的壁部，

所述壁部具有以第一厚度形成的第一部位、以比所述第一厚度厚的第二厚度形成的第二部位和以所述第一厚度形成的第三部位，

所述第二部位被所述第一部位和所述第三部位夹在中间，

所述第一部位和所述第三部位相对于与所述筒形状的中心线正交且将所述靶构件二等分的假想面呈对称配置，

所述固定部包括主体部和按压所述靶的按压部，

所述成膜装置具有：

第一密封构件，与所述第一部位、所述第二部位和所述按压部接触；

第二密封构件，与所述第二部位、所述第三部位和所述主体部接触；以及

第三密封构件，与所述主体部和所述按压部接触。

5.如权利要求4所述的成膜装置，其中，

所述第一密封构件由O形环构成，

所述第二密封构件也由O形环构成，

所述第三密封构件也由O形环构成。

6.如权利要求5所述的成膜装置，其中，所述第一密封构件和所述第二密封构件由相同尺寸的O形环构成。

7.如权利要求4所述的成膜装置，其中，所述主体部具有与所述第二部位相对的侧面，

在所述第二部位与所述侧面之间存在间隙。

8.如权利要求7所述的成膜装置，其中，所述间隙由所述第一密封构件、所述第二密封构件和所述第三密封构件密闭。

9.如权利要求8所述的成膜装置，其中，在所述间隙中流过用于对所述靶进行冷却的冷却水。

10.如权利要求4所述的成膜装置，其中，所述固定部构成为能够卸除所述靶。

11.如权利要求10所述的成膜装置，其中，所述固定部构成为也能够安装翻转后的所述靶。

12.如权利要求4所述的成膜装置，其中，所述等离子体生成部利用电子回旋共振现象来生成等离子体。

13.如权利要求4所述的成膜装置，其中，所述成膜装置具有向所述靶施加高频电压的高频电源部。

14.如权利要求4所述的成膜装置，其中，所述成膜对象物具有解理面。