[发明专利]工件保持部旋转单元及真空处理装置

说明书

本发明提供一种工件保持部旋转单元，可应对真空处理的角度依赖性。本发明包括：旋转轴20；旋转轮40，能够以所述旋转轴20为中心进行旋转；多个工件保持部60，能够保持工件W，配置成在以所述旋转轴20为中心的圆周上排列，且以能够以相对于所述旋转轴20的轴线倾斜的轴线为中心进行旋转的方式设置于所述旋转轮40；以及固定圆盘70，形成为以所述旋转轴20为中心的圆盘状，并且配置成与多个所述工件保持部60接触，伴随着所述旋转轮40的旋转使所述工件保持部60旋转。

技术领域

本发明涉及一种工件保持部旋转单元及真空处理装置的技术。

背景技术

现有的工件保持部旋转单元及真空处理装置的技术如例如专利文献1所记载。

在专利文献1中，已公开一种涂布装置(coating device)，其是一面使小径工具旋转，一面进行涂布。所述涂布装置包括：自转夹具(jig)，可保持小径工具，并且进行旋转(自转)；小公转夹具，使自转夹具以小公转轴为中心而旋转(小公转)；以及大公转夹具，使小公转夹具以大公转轴为中心而旋转(大公转)。自转夹具、小公转夹具及大公转夹具的轴线(旋转中心线)配置成相互平行。又，在所述大公转夹具等的侧方，配置有靶材(target)。

在如上所述而构成的涂布装置中，一面使小径工具进行自转、小公转及大公转，一面利用自靶材发出的材料对小径工具实施涂布。通过进行如上所述的自转及公转，可对小径工具的整个表面实施涂布。

但是，在专利文献1所述的技术中，在使小径工具进行旋转(自转及公转(小公转及大公转))的情况下，虽然小径工具的侧面与靶材相向，但上表面不会与靶材相向。因此，在小径工具的侧面及上表面有可能产生涂布不均，此方面存在改善的余地。

例如，在溅射法中，存在根据自溅射靶材发出的成膜材料的粒子到达工件时的角度，所形成的膜的膜质不同的情况。又，在干式蚀刻装置、表面改质装置等成膜装置以外的等离子体处理装置中，也存在根据等离子体到达工件时的角度，处理特性或处理性能不同的情况。期望能够应对此种真空处理中的角度依赖性的技术。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2007-77469号公报

发明内容

发明所要解决的问题

本发明是鉴于如以上所述的状况而完成，其所要解决的问题在于提供一种工件保持部旋转单元及真空处理装置，能够应对真空处理的角度依赖性。

解决问题的技术手段

本发明所要解决的问题如以上所述，为了解决所述课题，本发明的工件保持部旋转单元包括：旋转轴；旋转部，能够以所述旋转轴为中心而旋转；多个工件保持部，能够保持工件，配置成在以所述旋转轴为中心的圆周上排列，且以能够以相对于所述旋转轴的轴线倾斜的轴线为中心而旋转的方式设置于所述旋转部；以及旋转驱动部，形成为以所述旋转轴为中心的圆盘状，并且配置成与多个所述工件保持部接触，伴随着所述旋转部的旋转，使所述工件保持部旋转。

又，本发明的真空处理装置包括所述工件保持部旋转单元。

发明的效果

根据本发明，能够应对真空处理的角度依赖性。

附图说明

[图1]是表示溅射装置的概略结构的A-A剖面示意图。

[图2]是所述溅射装置的概略结构的平面剖面示意图。

[图3]是表示成膜室的内部结构的前视剖面图。

[图4]是表示成膜室的内部结构的前视剖面放大图。

[图5]是表示工件保持部的周边的前视剖面图。