[发明专利]用于对透明基板改性的系统和方法

权利要求书

1.一种系统，包括：

光源；

光学系统，包括第一部分和第二部分；以及

第一扭矩电机和第二扭矩电机，与所述第一部分和所述第二部分中的相应部分集成，

其中，所述第一扭矩电机配置为使所述第一部分围绕第一轴线旋转；

其中，所述第二扭矩电机配置为使所述第二部分围绕第二轴线旋转；

其中，所述第一轴线垂直于所述第二轴线。

2.如权利要求1所述的系统，其中，所述光学系统包括：

非球面光学元件；

第一反射光学设备；

第一透镜，配置为对光线进行准直；

第二反射光学设备；以及

第二透镜，配置为对所述光线进行聚焦。

3.如权利要求1所述的系统，其中，所述光学系统进一步包括：非球面光学元件，所述非球面光学元件包括：折射轴棱锥、反射轴棱锥、负轴棱锥、空间光调制器、衍射光学器件、或立方体形状的光学元件。

4.如权利要求1或2所述的系统，其中，所述光学系统包括：第一反射光学设备和第二反射光学设备，所述第一反射光学设备和第二反射光学设备包括镜子。

5.如权利要求1所述的系统，其中，所述第一部分包括非球面光学元件和反射光学设备。

6.如权利要求5所述的系统，其中，所述第一部分进一步包括透镜。

7.如权利要求1所述的系统，其中，所述第一部分包括反射光学设备和透镜。

8.如权利要求1所述的系统，其中，所述第二部分包括反射光学设备和透镜。

9.如权利要求8所述的系统，其中，所述第二部分进一步包括另一透镜。

10.如权利要求1所述的系统，其中，所述光源产生具有脉冲串的脉冲激光射束，所述脉冲串包括针对每个脉冲串的两个或更多个子脉冲。

11.如权利要求1至10所述的系统，其中，所述光学系统配置为生成准非衍射射束。

12.如权利要求1至11所述的系统，其中，所述准非衍射射束包括：

波长λ；

光斑尺寸w_o；以及

包括大于的瑞利范围Z_R的横截面，其中，F_D是包括10或更大值的无量纲发散因子。

13.如权利要求12所述的系统，其中，所述无量纲发散因子F_D包括从10到2000、从50到1500、或从100到1000的值。

14.如权利要求1至13所述的系统，进一步包括：编码器，配置为跟踪所述扭矩电机。

15.如权利要求1至14所述的系统，其中，所述第一轴线是笛卡尔坐标系中的竖直的Z轴，并且所述第二轴线是笛卡尔坐标系中的X轴或Y轴。

16.如权利要求1至15所述的系统，其中，所述系统被配置用于对透明工件进行激光处理。

17.如权利要求16所述的系统，其中，所述透明工件包括碱铝硅玻璃材料。

18.一种方法，包括：

由系统生成准非衍射射束；

将所述准非衍射射束引导到透明工件上，在所述透明工件内生成诱导吸收并产生缺陷；以及

由所述系统沿轮廓线将所述准非衍射射束相对于所述透明工件移动，在所述透明工件中形成具有多个缺陷的轮廓，

其中，所述准非衍射射束在冲击位置处被取向为与所述透明工件的冲击表面正交。