[发明专利]测量光刻设备中的图案形成装置的变形的设备和方法

权利要求书

1.一种用于补偿光刻设备中的图案形成装置中的变形的系统，所述系统包括：

用于图案形成装置的支撑件；

至少一个传感器，当所述图案形成装置被安装在所述支撑件上时，所述传感器能横向邻近所述图案形成装置的边缘定位，所述传感器被配置为生成指示传感器与所述边缘的部分之间的距离的输出信号；以及

掩模版变形补偿单元，被布置为接收所述输出信号，并且被配置为至少部分地基于所述输出信号来生成补偿控制信号。

2.根据权利要求1所述的系统，其中所述传感器包括：至少一个用于在所述边缘的所述部分处排出气流的喷嘴、以及测量单元，所述测量单元测量由所述边缘的所述部分施加在所述气流上的背压的量。

3.根据权利要求1所述的系统，还包括至少两个传感器，第一传感器和第二传感器，当所述图案形成装置被安装在所述支撑件上时，所述第一传感器能横向邻近所述图案形成装置的第一边缘定位，当所述图案形成装置安装在所述支撑件上时，所述第二传感器能横向邻近所述图案形成装置的第二边缘定位，所述第一传感器被配置为生成指示所述第一传感器与所述第一边缘的部分之间的距离的输出信号，并且第二传感器被配置为生成指示第二传感器与第二边缘的部分之间的距离的输出信号。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一传感器包括：至少一个用于在所述边缘的所述部分处排出气流的喷嘴、以及测量单元，所述测量单元测量由所述第一边缘的所述部分施加在所述气流上的背压的量，并且所述第二传感器包括：至少一个用于在所述边缘的所述部分排出气流的喷嘴、以及测量单元，所述测量单元测量由所述第二边缘的所述部分施加在所述气流上的背压的量。

5.根据权利要求1、2、3或4所述的系统，还包括光学系统，所述光学系统包括至少一个光学元件，所述光学元件具有至少部分地基于所述补偿控制信号能由致动器改变的光学特性。

6.根据权利要求1所述的系统，其中所述至少一个传感器包括传感器元件的线性阵列，所述线性阵列被定位成邻近所述边缘、并且在平行于所述边缘的方向上延伸。

7.根据权利要求5所述的系统，其中所述传感器元件中的每个传感器元件包括：至少一个用于在所述边缘的相应部分处排出气流的喷嘴、以及测量单元，所述测量单元测量由所述边缘的所述相应部分施加在所述气流上的背压的量。

8.根据权利要求6或7所述的系统，还包括光学系统，所述光学系统包括至少一个光学元件，所述光学元件具有至少部分地基于所述补偿控制信号能由致动器改变的光学特性。

9.一种用于补偿光刻设备中的图案形成装置中的变形的系统，所述系统包括：

用于图案形成装置的支撑件；

第一传感器，当所述图案形成装置被安装在所述支撑件上时，所述第一传感器能横向邻近所述图案形成装置的第一边缘定位，并且所述第一传感器包括第一传感器元件的线性阵列，所述线性阵列被定位成邻近所述图案形成装置的所述第一边缘、并且在平行于所述图案形成装置的所述第一边缘的方向上延伸，并且所述第一传感器被配置为生成指示在所述第一传感器与所述第一边缘的部分之间的距离中的变形的第一输出信号；

第二传感器，当所述图案形成装置被安装在所述支撑件上时，所述第二传感器能横向邻近所述图案形成装置的第二边缘定位，并且所述第二传感器包括第二传感器元件的线性阵列，所述线性阵列被定位成邻近所述图案形成装置的所述第二边缘、并且在平行于所述图案形成装置的所述第二边缘的方向上延伸，并且所述第二传感器被配置为生成指示在所述第二传感器与所述第二边缘的部分之间的距离中的变形的第二输出信号；以及

掩模版变形补偿单元，被布置为接收所述第一输出信号和所述第二输出信号，并且被配置为至少部分地基于所述第一输出信号和所述第二输出信号来生成补偿控制信号。