[发明专利]狭缝喷嘴和高硅钢带的制造方法在审
申请号: | 201980069758.1 | 申请日: | 2019-08-13 |
公开(公告)号: | CN112888806A | 公开(公告)日: | 2021-06-01 |
发明(设计)人: | 户部辉彦;土居崇;小关新司 | 申请(专利权)人: | 杰富意钢铁株式会社 |
主分类号: | C23C10/08 | 分类号: | C23C10/08 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 盛曼;金龙河 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 狭缝 喷嘴 硅钢 制造 方法 | ||
1.一种狭缝喷嘴,其具有外管与内管的双重管结构,所述外管在轴向上设置有处理气体的喷出口且一端被封闭,所述内管在一端侧设置有处理气体的供给口且另一端侧在所述外管的被封闭的一端侧的内部开放,所述狭缝喷嘴通过从所述供给口供给处理气体而从所述喷出口吹出处理气体,所述狭缝喷嘴中,
在从所述内管的开放端到该开放端侧的所述喷出口的端部之间,具备将所述内管与所述外管之间挡住的整流板,
仅在设置有所述整流板的面上自穿过所述外管的轴中心和所述喷出口的宽度方向的中心的基准线起的中心角为27.5°以上且332.5°以下的所述整流板的区域设置有开口部。
2.如权利要求1所述的狭缝喷嘴,其中,所述整流板设置在所述内管的开放端面。
3.如权利要求1或2所述的狭缝喷嘴,其中,在设置有所述整流板的面上,所述开口部相对于所述基准线左右对称。
4.一种高硅钢带的制造方法,其是利用使用了权利要求1~3中任一项所述的狭缝喷嘴的渗硅处理法的高硅钢带的制造方法,其中,
将两个以上所述狭缝喷嘴在渗硅处理炉内的钢带的通板方向上以如下方式配置:在该通板方向上相邻的狭缝喷嘴或狭缝喷嘴组的所述狭缝喷嘴的处理气体的供给口为交替地不同的方向,
所述制造方法具有如下工序:从所述处理气体的供给口向所述狭缝喷嘴内供给含有四氯化硅(SiCl4)的处理气体,从所述狭缝喷嘴的处理气体的喷出口向进行通板的钢带喷吹所述处理气体。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C10-00 金属材料表面中仅渗入金属元素或硅的固渗
C23C10-02 .被覆材料的预处理
C23C10-04 .局部表面上的扩散处理,例如使用掩蔽物
C23C10-06 .使用气体的
C23C10-18 .使用液体,例如盐浴、悬浮液的
C23C10-28 .使用固体,例如粉末、膏剂的