[发明专利]用于清洁真空系统的方法、用于真空处理基板的方法、及用于真空处理基板的设备

说明书

描述了一种用于清洁真空腔室(特别是用于OLED装置的制造中的真空腔室)的方法。此方法包括利用活性物种清洁真空腔室的内侧及真空腔室的内侧的元件的至少一者，用于产生这些活性物种的处理气体包括至少90％的氧及至少2％的氩，特别是，其中处理气体包括约95％的氧及约5％的氩。

技术领域

本公开内容的实施方式有关于一种用于清洁真空系统的方法、一种用于真空处理基板的方法、及一种用于真空处理基板的设备。本公开内容的实施方式特别是有关于使用于有机发光二极管(OLED)装置的制造中的方法及设备。

背景技术

用于在基板上的层沉积的技术举例为包括热蒸发、物理气相沉积(PVD)、及化学气相沉积(CVD)。已涂布的基板可使用于数种应用中及数种技术领域中。举例来说，已涂布的基板可使用于有机发光二极管(OLED)装置的领域中。OLED可使用于电视屏幕、电脑屏幕、移动电话、其他手持装置、及用于显示信息的类似装置中。例如是OLED显示器的OLED装置可包括沉积于基板上的两个电极之间的有机材料的一层或多层。

OLED装置可包括数个有机材料的堆叠，这些有机材料的堆叠例如在处理设备的真空腔室中蒸发。真空腔室的内侧的真空条件及真空腔室的内侧的污染物影响已沉积的材料层及使用这些材料层所制造的OLED装置的品质。

举例来说，OLED装置寿命受到有机污染物的影响。污染物可能源自于在真空的内侧使用的部件及材料和/或源自于维护期间的交叉污染。在制造之前或在制造期间的清洁(即，移除污染物)导致OLED装置的稳定、高品质制造。

用于适当清洁以实现适于制造的污染水平(预防性维护(PM)恢复)的持续期间或时间为关键资源。对制造系统的拥有者而言，每分钟的设备停工时间的代价昂贵。因此，增加清洁效率及减少清洁时间减少了制造成本。

因此，对于可改善真空腔室的内侧的真空条件及真空腔室的清洁的方法及设备是有需求的。本公开内容特别是着重于减少污染物，使得沉积于基板上的有机材料的层的品质可得到改善。

发明内容

有鉴于上述，提出一种用于清洁真空系统的方法，此真空系统特别是使用于OLED装置的制造中；一种用于在基板上真空沉积来制造OLED装置的方法；及一种用于在基板上真空沉积来而特别是来制造OLED装置的设备。本公开内容的其他方面、优点、及特征通过权利要求书、说明书及所附附图而更为清楚。

根据一个实施方式，提出一种用于清洁真空腔室的方法，此真空腔室特别是使用于OLED装置的制造中的真空腔室。此方法包括利用活性物种清洁真空腔室的表面及真空腔室的内侧的元件的至少一者，用于产生这些活性物种的处理气体包括至少90％的氧及至少2％的氩，特别是，其中处理气体包括约95％的氧及约5％的氩。

根据一个实施方式，提出一种用于真空处理基板来制造OLED装置的方法。此方法包括根据本文所述的实施方式的任一者的用于清洁的方法；以及在基板上沉积有机材料的一层或多层。

根据一个实施方式，提出一种用于真空处理基板而特别是来制造OLED装置的设备。此设备包括真空腔室；远程等离子体源，连接于真空腔室，远程等离子体源具有处理气体入口及用于活性物种的管道；以及控制器，包括：处理器及储存指令的存储器，当处理器执行这些指令时致使设备执行根据本公开内容的实施方式的任一者的方法。

附图说明

为了使本公开内容的上述特征可详细地了解，可参照实施方式来获得简要摘录于上的本公开内容的更特定的说明。所附附图有关于本公开的实施方式且说明于下方：

图1A及图1B绘示根据本文所述实施方式的用于清洁使用于OLED装置的制造中的真空系统的方法的流程图；

图2绘示根据本文所述实施方式的用于真空处理基板来制造OLED装置的方法的流程图；

图3绘示根据本文所述实施方式的用于真空处理基板来制造OLED装置的系统的示意图；