[发明专利]利用感应传感器和光学位移传感器的厚度测量有效

专利信息
申请号: 201980064926.8 申请日: 2019-09-24
公开(公告)号: CN112789478B 公开(公告)日: 2023-10-20
发明(设计)人: 迈克尔·孔·耀·休斯;塞巴斯蒂安·蒂克西尔;托比亚斯·内贝尔 申请(专利权)人: 霍尼韦尔国际公司
主分类号: G01B7/06 分类号: G01B7/06;G01B11/06
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 陈岚
地址: 美国新*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 利用 感应 传感器 光学 位移 厚度 测量
【权利要求书】:

1.一种传感器系统(100),包括:

涡电流传感器(120),所述涡电流传感器包括至少一个线圈(120a),所述至少一个线圈具有耦合在所述线圈两端的激励电子器件(121);

光学位移传感器(140),所述光学位移传感器固定到所述涡电流传感器,使得所述光学位移传感器和所述涡电流传感器之间的垂直距离是固定的,并且其中所述光学位移传感器位于所述线圈的顶部并与所述线圈同心,使得所述光学位移传感器的测量轴线与所述线圈的对称轴线共线,和

计算装置(150),所述计算装置包括处理器(151)和存储器(152),所述计算装置被耦合以接收来自所述涡电流传感器和所述光学位移传感器的传感器数据,所述计算装置适于分析当测量在金属基底(185)的至少一侧上包括涂层(187)的涂覆基底(180)时获得的所述传感器数据,以至少确定所述涂层的厚度。

2.根据权利要求1所述的传感器系统,其中所述激励电子器件向所述线圈提供重复脉冲电流信号,并且其中所述传感器数据的所述分析包括通过以下方式分析由所述涡电流传感器感测的波形:将作为接收波形的所述传感器数据或从其导出的统计数据与校准值进行比较。

3.根据权利要求2所述的传感器系统,其中所述激励电子器件被配置为以单个频率提供所述重复脉冲电流信号,并且其中所述传感器数据的所述分析包括将所述线圈两端的电压和所述线圈的相位中的至少一者与计算或测量的校准曲线进行比较。

4.根据权利要求1所述的传感器系统,还包括扫描器(190)和平移机构(195),所述扫描器包括至少一个头部(191、192),其中至少所述涡电流传感器和所述光学位移传感器被包含在所述至少一个头部内。

5.根据权利要求4所述的传感器系统,其中所述涂层包括顶部涂层(187)和底部涂层(186),并且其中所述至少一个头部包括用于测量所述顶部涂层的厚度的顶部头(191)和用于测量所述底部涂层的厚度的底部头(192)。

6.根据权利要求5所述的传感器系统,其中所述顶部头中的所述光学位移传感器和所述底部头中的所述光学位移传感器之间的距离是已知的,并且其中所述分析还包括确定所述涂覆基底的厚度和所述底部涂层的厚度。

7.一种测量在金属基底(185)上包括涂层(187)的涂覆基底(180)的厚度的方法,所述方法包括:

提供传感器系统(100),所述传感器系统包括:涡电流传感器(120),所述涡电流传感器包括至少一个线圈(120a)和耦合在所述线圈两端的激励电子器件(121);光学位移传感器(140),所述光学位移传感器被固定到所述涡电流传感器,使得所述光学位移传感器和所述涡电流传感器之间的垂直距离是固定的,并且其中所述光学位移传感器位于所述线圈的顶部并且与所述线圈同心,使得所述光学位移传感器的测量轴线与所述线圈的对称轴线共线;以及计算装置(150),所述计算装置包括处理器(151)和存储器(152),所述计算装置耦合到所述线圈并耦合到所述光学位移传感器的输出端;

所述涡电流传感器和所述光学位移传感器各自生成从测量所述涂覆基底中接收的传感器数据;

所述计算装置分析从所述涡电流传感器和所述光学位移传感器接收的所述传感器数据,以至少确定所述涂层的所述厚度。

8.根据权利要求7所述的方法,其中所述激励电子器件向所述线圈提供重复脉冲电流信号,并且其中所述传感器数据的所述分析包括通过以下方式分析由所述涡电流传感器感测的波形:将作为接收波形的所述接收传感器数据或从其导出的统计数据与校准值进行比较。

9.根据权利要求7所述的方法,其中所述激励电子器件被配置为以单个频率提供所述重复脉冲电流信号,并且其中所述传感器数据的所述分析包括将所述线圈两端的电压和所述线圈的相位中的至少一者与计算或测量的校准曲线进行比较。

10.根据权利要求7所述的方法,其中所述传感器系统还包括扫描器(190)和平移机构(195),所述扫描器包括至少一个头部(191、192),并且其中至少所述涡电流传感器和所述光学位移传感器被包含在所述至少一个头部内。

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