[发明专利]光调制器在审
申请号: | 201980060445.X | 申请日: | 2019-12-13 |
公开(公告)号: | CN113196150A | 公开(公告)日: | 2021-07-30 |
发明(设计)人: | 野本佳朗 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | G02F1/03 | 分类号: | G02F1/03 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 调制器 | ||
本实施方式的光调制器与使用液晶的SLM相比,能够实现高速的调制。该光调制器具备沿基准面上的第1方向配置多个第1折射率区域、包围折射率区域各自的区域且具有比各折射率区域的折射率低的折射率的区域、第1导电膜和第2导电膜。第1导电膜在选自多个折射率区域、且属于第1组的至少1个折射率区域,设置于沿第1方向配置的一对侧面的任一个上。第2导电膜在选自多个折射率区域、且属于第2组的至少1个折射率区域,不与第1导电膜重复而设置于一对侧面的任一个上。
技术领域
本发明涉及光调制器。
背景技术
在专利文献1中,公开有调制入射光的光调制器、以及组装于该光调制器的光调制装置。该光调制器具备基底层、图案部和可变折射率部。基底层由第1折射率材料构成。图案部设置于基底层上,具有多个部分。多个部分由具有与第1折射率材料不同的折射率且具有导电性的第2折射率材料构成。可变折射率部由具有与第2折射率材料不同的折射率且在电场下折射率变化的第3折射率材料构成。可变折射率部填充图案部的多个部分间。此外,在非专利文献1中,公开有利用普克尔斯效应调制UV光(波长355nm)的光调制器。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:国际公开第2017/057700号
非专利文献
非专利文献1:Masahide Okazaki et al.,“EO Spatial UV-Light ModulatorUsing Periodically-Poled Deep-Proton-Exchanged s-LiTaO3Waveguide(使用周期极化深质子交换的s-LiTaO3波导的EO空间紫外光调制器)”,European Conference OnIntegrated Optics,(2012)
发明内容
发明所要解决的问题
作为发明人对现有的光调制器研究的结果,发现以下那样的技术问题。即,近年来,例如在激光加工或显微镜观察等领域,实现了通过使用空间光调制器(Spatial LightModulator:SLM)对光进行调制,从而得到所期望的时间波形或聚光形状的技术。例如,作为SLM,已知有在液晶层调制光的相位的LCOS(Liquid Crystal On Silicon:硅上液晶)型的SLM。但是,在使用液晶的这样的SLM中,对控制信号的输入的响应慢,因此期望一种能够进行高速调制的SLM。
本发明是为了解决上述那样的问题而完成的,其目的在于,提供与使用液晶的SLM相比,能够进行高速的调制的光调制器。
用于解决问题的方式
为了解决上述的技术问题,本发明的一个实施方式的光调制器具备多个折射率区域、第1导电膜和第2导电膜。多个折射率区域以沿基准面上的第1方向构成光栅的方式以一定的排列间距在该基准面上依次配置。此外,多个折射率区域各自包含非线性光学晶体并且具有在与第1方向交叉的状态下沿该第1方向依次配置的一对侧面。第1导电膜在选自多个折射率区域、且属于第1组的1个或其以上的折射率区域,设置于一对侧面中任一个侧面上。同样地,第2导电膜在选自多个折射率区域、且属于第2组的1个或其以上的折射率区域,不与第1导电膜重复而设置于一对侧面中任一个侧面上。进一步地,多个折射率区域各自被具有比该多个折射率区域各自的折射率低的折射率的区域包围。
发明的效果
根据本发明的一个实施方式的光调制器,与使用液晶的SLM相比,能够进行高速的调制。
附图说明
图1是表示本实施方式的光调制器1A的俯视图。
图2是沿图1的II-II线的光调制器1A的截面图。
图3(a)和图3(b)是分别表示多个第1折射率区域7的光调制器1A的反射特性的例子的图表。
图4(a)和图4(b)是分别表示多个第1折射率区域7的光调制器1A的反射特性的例子的图表。
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