[发明专利]用于高压连接的装置有效
| 申请号： | 201980060372.4 | 申请日： | 2019-08-12 |
| 公开（公告）号： | CN112703344B | 公开（公告）日： | 2023-07-28 |
| 发明（设计）人： | J·D·特德罗;D·贝塞姆斯;陈蔚勋 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | H05G2/00 | 分类号： | H05G2/00;F16L25/00;F16L13/04 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 胡良均 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 高压 连接 装置 | ||
1.一种用于高压连接的装置，包括：
导管部分，由第一难熔金属制成，所述导管部分与EUV光源目标材料输送系统的目标材料储存器流体连通；以及
装配部分，附接到所述导管部分的轴向端部，所述装配部分由第二难熔金属制成，第二难熔金属比所述第一难熔金属具有较大的屈服强度。
2.根据权利要求1所述的装置，其中所述装配部分被焊接到所述导管部分的轴向端部。
3.根据权利要求1所述的装置，其中所述第二难熔金属包括TaW10。
4.根据权利要求1所述的装置，其中所述装配部分具有圆形非对称横截面。
5.根据权利要求1所述的装置，其中：
所述导管部分包括TaW2.5；以及
所述装配部分被焊接到所述导管部分的轴向端部并且包括TaW10。
6.一种用于高压连接的装置，包括：
导管部分，由第一难熔金属制成，所述导管部分与EUV光源目标材料输送系统的目标材料储存器流体连通；以及
装配部分，附接到所述导管部分的轴向端部，所述装配部分由第二难熔金属制成，第二难熔金属比所述第一难熔金属具有较大的屈服强度，
其中所述第一难熔金属包括TaW2.5。
7.一种EUV光源目标材料输送系统，适于将目标材料输送到EUV光源的照射区域，所述目标材料输送系统包括：
目标材料储存器；
导管，与所述目标材料储存器流体连通；以及
喷嘴组件，与所述导管流体连通，其中
所述导管包括由第一难熔金属制成的导管部分；以及附接到所述导管部分的轴向端部的至少一个装配部分，所述至少一个装配部分由第二难熔金属制成，第二难熔金属比所述第一难熔金属具有较大的屈服强度。
8.根据权利要求7所述的EUV光源目标材料输送系统，其中所述至少一个装配部分被焊接到所述导管部分的轴向端部。
9.根据权利要求7所述的EUV光源目标材料输送系统，其中所述第一难熔金属包括TaW2.5。
10.根据权利要求7所述的EUV光源目标材料输送系统，其中所述第二难熔金属包括TaW10。
11.一种制造导管的方法，包括以下步骤：
提供由第一难熔金属制成的伸长导管部分，所述伸长导管部分与EUV光源目标材料输送系统的目标材料储存器流体连通；
提供附接到所述伸长导管部分的轴向端部的装配部分，所述装配部分包括第二难熔金属，第二难熔金属比所述第一难熔金属具有较大的屈服强度；以及
将所述装配部分附接到所述伸长导管部分。
12.根据权利要求11所述的方法，其中将所述装配部分附接到所述伸长导管部分的步骤包括：将所述装配部分焊接到所述伸长导管部分。
13.根据权利要求11所述的方法，其中所述第一难熔金属包括TaW2.5。
14.根据权利要求11所述的方法，其中所述第二难熔金属包括TaW10。
15.根据权利要求11所述的方法，其中所述装配部分具有圆形非对称横截面。
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