[发明专利]糖苷化合物的制造方法在审
申请号: | 201980058307.8 | 申请日: | 2019-09-06 |
公开(公告)号: | CN112638926A | 公开(公告)日: | 2021-04-09 |
发明(设计)人: | 斋藤龙也;井原秀树 | 申请(专利权)人: | 住友化学株式会社 |
主分类号: | C07H19/067 | 分类号: | C07H19/067;C07H19/10;C07B61/00 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人: | 杨宏军;焦成美 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 糖苷 化合物 制造 方法 | ||
本发明提供能以高纯度合成目标化合物(亚磷酰胺)的方法,所述方法是制造通式(3)表示的糖苷化合物的方法,所述方法包括下述工序:工序A:在氧化剂及酸的存在下,使通式(1)表示的糖苷化合物与式(2)表示的醚化合物反应,从而制造通式(3)表示的糖苷化合物的工序,该工序中,向反应体系内添加氧化剂,然后添加酸(下述式中,式中,Ba表示可以被酰基取代的胞嘧啶基、或尿嘧啶基,R1表示C1~C6烷基、或苯基,而且,n表示0或1。)此处,氧化剂选自由N‑卤代琥珀酰亚胺及N‑卤代乙内酰脲组成的组,而且,酸选自由全氟烷基羧酸及其盐、烷基磺酸及其盐、芳基磺酸及其盐、全氟烷基磺酸及其盐、及它们中2种以上的组合组成的组。
技术领域
本专利申请主张基于日本专利申请2018-168135号(于2018年9月7日提出申请)的巴黎条约上的优先权及利益,通过在此处引用,将上述申请中记载的全部内容并入本说明书中。
本发明涉及糖苷化合物及亚磷酰胺化合物的制造方法。
背景技术
RNA可作为RNA探针、反义RNA、核酶、siRNA、适配体等来利用,是有用的原材料。
RNA可利用固相合成法等来合成,固相合成法中,可使用核苷的亚磷酸酰胺(phosphoramidite)(以下,称为“亚磷酰胺(amidite)”)作为原料。作为这样的亚磷酰胺的2’位的羟基的保护基,例如,TBDMS(叔丁基二甲基甲硅烷基)、TOM(三异丙基甲硅烷基氧基甲基)、ACE(双(2-乙酰氧基乙氧基)甲基)等是已知的。此外,作为亚磷酰胺的2’位的羟基的保护基,报道了专利文献1、2及3中公开的保护基,但作为具有这些保护基的亚磷酰胺的合成方法,从得到的亚磷酰胺的收率、纯度方面考虑,不一定令人满意。
已知存在亚磷酰胺的位置异构体的情况下,在RNA的合成中,对最终产物的合成造成不良影响(参见He,Kaizhang and Hasan,Ahmad Classification andCharacterization of Impurities in Phosphoramidites Used in Making TherapeuticOligonucleotides:Risk Mitigation Strategies for Entering Clinical Phases,URL:https://assets.thermofisher.com/TFS-Assets/BID/Technical-Notes/amidit e-impurity-classification-technote.pdf)。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本专利第5157168号公报
专利文献2:日本专利第5554881号公报
专利文献3:WO2007/097447
发明内容
发明所要解决的课题
本发明的目的在于提供:能以高纯度合成目标化合物(亚磷酰胺化合物)的制造糖苷化合物及亚磷酰胺化合物的方法。
用于解决课题的手段
在亚磷酰胺的合成反应中,在前述专利文献1、2及3中,在制造以下的通式(3)表示的糖苷化合物时,进行下述工序:向反应体系内添加三氟甲磺酸或三氟甲磺酸银等酸,然后添加N-碘琥珀酰亚胺或N-溴琥珀酰亚胺等氧化剂。这样,进行质谱分析(mass analysis)时,确认了生成了与目标物相同分子量的杂质。
本申请的发明人为了达成上述目的而反复进行了深入研究,结果得到了下述这样的认识:在亚磷酰胺化合物的合成反应中,在制造通式(3)表示的糖苷化合物时,通过向反应体系内添加氧化剂(N-碘琥珀酰亚胺),然后添加酸(三氟甲磺酸),能抑制与目标物相同分子量的杂质的生成。结果,能以高纯度合成目标化合物(亚磷酰胺化合物)。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于住友化学株式会社,未经住友化学株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980058307.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:自适应激光束整形
- 下一篇:制造CEM器件的方法