[发明专利]液压成形冷却装置的弯曲方法和弯曲的液压成形冷却装置

说明书

本发明涉及一种用于微光刻投射印刻系统的冷却装置的弯曲方法，该方法包括以下步骤：提供特别地未弯曲的冷却装置(100)，其包括至少一个腔体(108)；至少在所述冷却装置(100)的待弯曲的一个区域中用液态低温介质(110)填充所述至少一个腔体(108)；使所述冷却装置(100)冷却，使得在所述腔体(108)中存在的介质(110)冷却至低于其熔化温度，并且至少部分地固化；弯曲所述冷却装置(100)，使得至少部分固化的介质(110)防止所述腔体(108)在弯曲期间封闭。

发明背景

本发明涉及用于液压成形的冷却装置的弯曲方法并且涉及弯曲的液压成形冷却装置。本发明还涉及微光刻投射曝光设备，其包括至少一个弯曲的液压成形冷却装置。

微光刻用于制造诸如集成电路或LCD的微结构部件。在包括照明装置和投射镜头的称为投射曝光设备的安装件中实行微光刻过程。在这种情况下，通过投射镜头将通过照明装置照明的掩模(＝掩模母版)的像投射至涂覆有感光层(＝光致抗蚀剂)且布置在投射镜头的像平面中的基板(例如硅晶片)上，以便将掩模结构转印至基板的感光涂层。

在针对DUV范围(即在例如193nm或248nm的波长处)设计的投射镜头中，透镜元件优选地用作成像过程的光学元件。

在针对EUV范围(即，例如近似13nm或7nm的波长处)设计的投射镜头中，由于缺少可用的合适光透射折射材料，因而将反射镜用作成像过程的光学部件。

在EUV和DUV投射曝光设备中，使用液压成形的(优选地板状)的冷却装置，以便冷却和/或热屏蔽在微光刻投射曝光设备的束路径中和周围的部件。由此形成所谓的迷你环境。迷你环境应理解为是意味着确立为临界的空间体积的物理分离或封装，以便产生限定的环境条件。因此，在EUV投射曝光设备中，迷你环境可以在其任务/功能之中包括以下：

-屏蔽称为传感器框架的构件，使其免受源自系统中的杂散光、反射镜致动器、传感器和/或加热的氢气的热；

-容纳束路径以保护光学表面，特别是反射镜免受污染。

液压成形的，优选地板状的冷却装置优选地形成为所谓的枕板。术语液压成形的，优选地板状的冷却装置和枕板在下文中同义地使用。从现有技术中已知枕板的制造，并且因此下面仅基于图1、2和3对其进行简单描述。

典型地(在这方面也参见图1)，为了制造在一侧成型的枕板100，将厚度为约1-1.5mm的较薄的高等级钢片102放置在厚度为3-4mm的较厚的高等级钢片104上，并且在没有间隙的情况下被夹紧，为此，取决于机器类型来使用所谓的压紧装置。取决于应用，材料强度以及材料可以变化。随后，板状片102、104在焊缝106处彼此焊接。在这种情况下，焊接图案取决于各种因素，诸如取决于期望的冷却能力和冷却介质的期望的流速。可以各种各样地设计焊接图案，许多变化是可能的。例如，在图2中示出了简单的规律焊接图案。圆形焊缝106将上片102焊接到下片104(在图2中看不到)，并且在操作期间提供所需的压缩稳定性。焊缝106的布置指示腔体108，特别是冷却通道，允许它们自身液压成形的程度(参见下一段)。图3示出了具有阻挡体112的冷却装置100。通过阻挡体112，可以产生特定的冷却介质流。因此，所有腔体108(在图3中都看不到)可以以限定的方式配备有冷却介质。这些阻挡体112可以避免所谓的死水区域。