[发明专利]液压成形冷却装置的弯曲方法和弯曲的液压成形冷却装置

权利要求书

1.一种用于微光刻投射曝光设备的冷却装置的弯曲方法，具有以下步骤：

-提供特别地未弯曲的冷却装置(100)，其包括至少一个腔体(108)；

-至少在所述冷却装置(100)的待弯曲区域中用液态低温介质(110)填充所述至少一个腔体(108)；

-使所述冷却装置(100)冷却，使得在所述腔体(108)中存在的所述介质(110)冷却至低于其熔化温度，并且从而至少部分地固化；

-弯曲所述冷却装置(100)，使得至少部分固化的介质(110)防止所述腔体(108)在弯曲期间封闭。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述至少一个腔体(108)通过液压成形来产生。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在所述弯曲期间维持小于近似100mm，优选地小于近似50mm的弯曲半径(114)。

4.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述介质(110)包括水和至少一个活性成分的混合物和/或至少一个活性成分在水中的溶液，所述活性成分包括至少一种表面活性剂，特别是仲醇乙氧基化物，和/或至少一种盐，特别是磷酸钾、硅酸钠或钠盐。

5.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，所述冷却装置(100)的冷却通过浸入液化气体中，特别是液氮中来执行。

6.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中，在所述弯曲步骤之后，将填充有所述至少部分固化的介质(110)的所述冷却装置(100)加热，使得所述介质(110)再次被液化，并且至少几乎完全从所述至少一个腔体(108)中移除所液化的介质(110)，而没有任何留下。

7.一种弯曲的冷却装置(100)，通过权利要求6所述的方法制造，包括至少一个腔体(108)。

8.根据权利要求7所述的冷却装置，其中，所述冷却装置(100)包括彼此连接的两个或更多个腔体(108)。

9.根据权利要求7或8所述的冷却装置，其中，所述至少一个腔体(108)由彼此焊接的两个片形成，特别地由较薄的片(102)和较厚的片(104)形成。

10.根据权利要求9所述的冷却装置，其中，所述片中的一个，特别是较厚的片(104)的面向所述微光刻投射曝光设备中的束路径的一侧包括凸纹(112)。

11.根据权利要求7至10中任一项所述的冷却装置，其中，所述弯曲半径(114)小于近似100mm，优选地小于近似50mm。

12.根据权利要求7至11中任一项所述的冷却装置，其中，所述冷却装置(100)布置为用于冷却和/或热屏蔽所述微光刻投射曝光设备(300、400)中的束路径中和/或周围的部件。

13.一种用于DUV范围(400)或用于EUV范围(300)的微光刻投射曝光设备，包括至少一个根据权利要求7至12中任一项所述的弯曲的，特别地液压成形的冷却装置(100)。