[发明专利]用于制作耐火陶瓷零件的方法有效
申请号: | 201980051320.0 | 申请日: | 2019-07-26 |
公开(公告)号: | CN112512995B | 公开(公告)日: | 2023-03-07 |
发明(设计)人: | 奥利维尔·博里 | 申请(专利权)人: | 法商圣高拜欧洲实验及研究中心 |
主分类号: | C04B41/80 | 分类号: | C04B41/80;C03B5/43 |
代理公司: | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人: | 黄志华;石磊 |
地址: | 法国柯*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 制作 耐火 陶瓷 零件 方法 | ||
1.一种用于标记耐火陶瓷零件的表面的方法,所述表面称为“待标记表面”,所述零件具有
-包含由硅酸盐粘结相连接的晶粒的微观结构,所述晶粒分别包含按质量计大于50%的ZrO2,
-按体积计小于5%的总孔隙率,
所述方法包括用激光束辐射所述表面,所述激光束由设置成符合以下关系式(1)的激光装置发射:
a.V2+b.F2+c.VF+d.V+e.F+f0,其中:
a=104.D+2×106
b=0.5×106.D-150×106
c=0.5×106.D-300×106
d=5×103.D-2.5×106
e=-5×103.D+2.0×106
f=-5×109.D+1.8×1012
V为在所述耐火陶瓷零件的表面上的所述激光束的线性行进速度,以mm/秒表示,且V大于30mm/s,
D为焦距,以mm表示,以及
F为脉冲频率,以kHz表示,
所述激光束的每单位面积的功率大于1000W/mm2,
传输至所述表面的所述激光束的曝光能量在5J/mm3至3000J/mm3之间。
2.如权利要求1所述的方法,其中,频率F小于300kHz和/或速度V小于5000mm/秒。
3.如权利要求2所述的方法,其中,频率F小于100kHz和/或速度V小于3000mm/秒。
4.如权利要求1-3中任一项所述的方法,其中,为了使所述标记可擦除,F/V<D/800。
5.如权利要求1所述的方法,其中,曝光能量适于在5μm至100μm之间的深度上去除所述粘结相,和/或适于在所述待标记表面的晶粒的平均尺寸的大于10%并且小于50%的深度上去除所述粘结相。
6.如权利要求1所述的方法,其中,在辐射之前,所述待标记表面具有根据标准ISO4287/1997测量的小于20μm的粗糙度Ra,和/或所述耐火陶瓷零件的水分百分比小于或等于1%。
7.如权利要求1所述的方法,其中,所述晶粒包含基于氧化物的质量百分比大于95%的ZrO2。
8.如权利要求1所述的方法,其中,所述耐火陶瓷零件由熔融材料制成。
9.如权利要求1所述的方法,其中,所述耐火陶瓷零件由占其质量大于90%的选自由ZrO2、Al2O3、SiO2、Cr2O3、Y2O3和CeO2组成的组中的一种或多种氧化物的材料制成。
10.如权利要求1所述的方法,其中,当所述激光束遇到所述待标记表面时,所述激光束的横截面的等效直径大于30μm且小于100μm。
11.一种用于制造熔炉的方法,所述方法包括以下步骤:
1)制造多个耐火陶瓷零件,并根据权利要求1至10中任一项所述的方法在每个零件上刻印标记,刻印在零件上的所述标记取决于所述零件在熔炉中的预期位置;
2)组装所述耐火陶瓷零件,使每个零件处于与刻印在其上的标记相对应的位置。
12.如权利要求11所述的方法,其中,所述熔炉为玻璃熔炉或冶金熔炉。
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