[发明专利]真空泵、以及在该真空泵中使用的圆筒部及底座部有效
申请号: | 201980049391.7 | 申请日: | 2019-08-02 |
公开(公告)号: | CN112469902B | 公开(公告)日: | 2023-06-16 |
发明(设计)人: | 大立好伸;前岛靖;高阿田勉 | 申请(专利权)人: | 埃地沃兹日本有限公司 |
主分类号: | F04D19/04 | 分类号: | F04D19/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 朱美红;王玮 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 真空泵 以及 使用 圆筒 底座 | ||
提供做成即使将制造时的尺寸公差放松一些也能够确保间隔件的一定的定位精度、且能够降低真空泵的制造成本的构造的真空泵、以及在该真空泵中使用的圆筒部及底座部。一种真空泵,在壳体内具备气体移送机构,所述壳体具有用来将气体从外部吸入的气体吸气口和用来将被吸入的气体向外部排出的气体排气口,所述气体移送机构具有在轴向上交替地多层排列的旋转叶片及固定叶片,所述真空泵具备:多个间隔件,被层积而将固定叶片在轴向上定位,呈环状;壳体,具有将被层积的多个间隔件的外周包围而配置的圆筒部和被安装于圆筒部的下部处的底座;以及上部径向定位部及下部径向定位部,分别设置在圆筒部内的上下两个位置,将被层积的间隔件的至少最上层的间隔件和最下层的间隔件同轴地保持。
技术领域
本发明涉及真空泵、以及在该真空泵中使用的圆筒部及底座部,特别涉及在半导体制造装置、分析装置等中使用的真空泵、以及在该真空泵中使用的圆筒部及底座部。
背景技术
在存储器、集成电路等半导体装置的制造中,为了避免由空气中的灰尘等带来的影响,进行绝缘膜、金属膜、半导体膜等的成膜的处理、进行蚀刻的处理在高真空状态的处理腔室内进行。在该处理腔室内的排气中,使用例如涡轮分子泵等真空泵。
作为这样的真空泵,已知有在壳体内具备气体移送机构(涡轮分子机构)的真空泵,所述壳体具有将气体从外部吸入的吸气口和将被吸入的气体向外部排出的排气口,所述气体移送机构具有在轴向上交替地多层排列的旋转叶片及固定叶片(例如,参照专利文献1)。
图7~图9是说明在壳体内具备设置有在轴向上交替地多层排列的旋转叶片及固定叶片的气体移送机构的以往的真空泵的概略构造的图,图7是真空泵的垂直剖视图,图8是图7的H部的放大图,图9是说明在壳体内将固定叶片以规定的间隔在上下方向上定位的呈环状的间隔件的剖视图。
首先,在图7及图8所示的以往的真空泵100中,形成真空泵100的外装体的壳体101中,圆筒部102和设置在该圆筒部102的下部处的底座103一起形成真空泵100的箱体。在壳体101的内部,收纳着作为使真空泵100发挥排气功能的构造物的气体移送机构104。
该气体移送机构104大体上划分,由旋转自如地被支承的旋转部(转子部)105和相对于壳体101被固定的固定部(定子部)106构成。
气体移送机构104中的旋转部105具备作为旋转轴的轴杆107、配设于该轴杆107的转子108和设置于转子108的多片旋转叶片109。
在轴杆107的轴线方向中部,设置有马达部110,被定子柱111内包。进而,在定子柱111内,相对于轴杆107的马达部110在吸气口112侧和排气口113侧分别设置有用来将轴杆107在径向方向(径向)上非接触地支承的径向磁轴承装置114、115。此外,在轴杆107的下端,设置有用来将轴杆107在轴线方向(轴向方向)上非接触地支承的轴向磁轴承装置116。
气体移送机构104中的固定部106被形成在壳体101的内周侧。在该固定部106,配设有呈圆筒形状的间隔件117、和被该间隔件117相互保持轴线方向的间隔的多个固定叶片118。固定叶片118是相对于轴杆107的轴线O2成直角地以放射状延伸的圆板形状的板状部件。
间隔件117是呈大致圆筒形状的固定部件,沿着壳体101的轴向延伸,并且具备:第1径向支承部117a,与固定叶片118的外周面环绕对置,并且与圆筒部102的内周面抵接;以及第2径向支承部117b,与旋转叶片109的外周面环绕对置,且与第1径向支承部117a的内周面抵接。
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