[发明专利]包含阴离子空位晶格的哈伯-博施催化剂在审
| 申请号： | 201980042416.0 | 申请日： | 2019-04-24 |
| 公开（公告）号： | CN112313008A | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 陶善文;约翰·汉弗莱斯 | 申请（专利权）人： | 华威大学 |
| 主分类号： | B01J27/24 | 分类号： | B01J27/24;B01J23/10;B01J23/83;B01J23/63;C01C1/04;C22C32/00;B01J35/00;B01J37/04;B01J37/08;B01J37/18;B01J35/10;B01J37/03;C01B21/082 |
| 代理公司： | 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 | 代理人： | 张兵兵 |
| 地址： | 英国考*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 包含 阴离子 空位 晶格 催化剂 | ||
1.用于催化哈伯-博施方法的组合物，所述组合物包含阴离子空位晶格和哈伯-博施催化剂。
2.根据权利要求1所述的组合物，其中所述哈伯-博施催化剂包括选自由Fe、Co、Ni、Ru或它们的组合组成的组的金属化合物。
3.根据权利要求1或权利要求2所述的组合物，其中所述组合物被配置用于催化哈伯-博施方法。
4.根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中所述阴离子空位晶格被掺杂以促进阴离子空位。
5.根据前述权利要求中任一项所述的组合物，其中所述阴离子空位晶格是氮氧化物。
6.根据权利要求5所述的组合物，其中所述氮氧化物是根据式III的化合物：
CeaMbO2-XNY
(式III)
其中M是化合价小于4的一种或多种元素，“a”和“b”独立地在0.05至0.95的范围内，前提是“a”和“b”加起来等于1；0X2；并且0Y≤X。
7.根据权利要求6所述的组合物，其中M是Sm和/或a是0.5至0.9。
8.根据权利要求6所述的组合物，其中(i)M是Pr或La；和/或(ii)a是0.2至0.6。
9.根据权利要求5所述的组合物，其中所述氮氧化物是根据式V或VI的化合物：
ZraMbO2-XNY
(式V)
其中M是钛；和/或铈；和/或化合价小于4的一种或多种元素，“a”和“b”独立地在0.05至0.95的范围内，前提是“a”和“b”加起来等于1；0X2；并且0Y≤X
TiaMbO2-XNY
(式VI)
其中M是锆；和/或铈；和/或化合价小于4的一种或多种元素，“a”和“b”独立地在0.05至0.95的范围内，前提是“a”和“b”加起来等于1；0X2；并且0Y≤X。
10.根据权利要求4所述的组合物，其中所述阴离子空位晶格是氧空位晶格，并且所述氧空位晶格包括掺杂的CeO2、掺杂的ZrO2、掺杂的TiO2、掺杂的BaZrO3或它们的组合。
11.根据权利要求10所述的组合物，其中所述氧空位晶格是钇稳定的氧化锆(YSZ)。
12.根据权利要求10所述的组合物，其中所述氧空位晶格为根据式II的化合物；
CeaMbO2-δ
(式II)
其中，M是化合价小于4的一种或多种元素，“a”和“b”独立地在0.05至0.95的范围内，前提是“a”和“b”加起来等于1。
13.根据权利要求12所述的组合物，其中(i)“a”和“b”各自独立地在0.1至0.8的范围内和/或(ii)M是Sm、Pr、La、Gd或它们的组合。
14.根据权利要求13所述的组合物，其中所述氧空位晶格包含Ce0.8Sm0.2O2-δ或Ce0.5Sm0.5O2-δ。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华威大学，未经华威大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201980042416.0/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
