[发明专利]基于MeV的离子射束分析设备

权利要求书

1.用于样本的基于MeV的离子射束分析的装置，包括：

-真空测量腔，其带有至少一个探测器和样本观测部；

-真空系统，其用于在所述真空测量腔内产生真空；

-离子射束管和用于聚焦离子射束的聚焦系统；

-样本转移系统，其包括带有样本保持部的样本操纵器，所述样本保持部用于接纳至少一个样本；

其特征在于，

所述装置具有用于将所述离子射束管真空密封地联接到所述测量腔处的耦合系统，所述耦合系统包括离子射束真空导引部、用于接纳探测器的至少一个器件、用于接纳样本观测部的至少一个器件以及用于接纳样本转移系统的器件，

其中，所述耦合系统是在各构件即离子光学装置、探测器和样本观测部之间的直接的机械连接，并且因实现在所述聚焦系统的最后一个离子光学构件、待检验的所述样本和所述探测器之间的较小距离和精确对准。

2.根据权利要求1所述的装置，带有以活节-真空导引部形式的耦合系统。

3.根据前述权利要求2所述的装置，带有耦合系统，所述耦合系统包括带有侧向和横向柔性的两级活节部。

4.根据前述权利要求1至3中任一项所述的装置，带有用于至少两种微粒类型或微粒慢化能力的探测器。

5.根据前述权利要求1至4中任一项所述的装置，带有圆形的探测器，所述探测器带有中间孔眼。

6.根据前述权利要求1至5中任一项所述的装置，带有样本观测部，所述样本观测部具有远心的摄像机以及偏转镜。

7.根据前述权利要求1至6中任一项所述的装置，带有用于在安装好的状态下校正样本表面相距探测器的距离的器件。

8.根据前述权利要求1至7中任一项所述的装置，带有真空测量腔，所述真空测量腔通过变细的调节螺钉的多个梯级和激光反射而在平移和旋转中可与离子射束对准地布置。

9.根据前述权利要求1至8中任一项所述的装置，带有真空测量腔，在所述真空测量腔中附加地在待检验的所述样本与至少一个探测器之间布置有至少一个圆弧段孔径。

10.根据前述权利要求1至9中任一项所述的装置，带有真空系统，所述真空系统包括真空测量设备和真空分析设备。

11.根据前述权利要求1至10中任一项所述的装置，带有非磁性的样本操纵器。

12.根据前述权利要求1至11中任一项所述的装置，带有多轴线-样本操纵器，所述多轴线-样本操纵器带有压电的机动化部和集成的位移-和/或位置传感器。