[发明专利]用于选择性搁架温度控制的装置和方法

权利要求书

1.一种系统，所述系统包括：

壳体，所述壳体限定室；

多个水平搁架，所述多个水平搁架竖直布置在所述室内，每个搁架均包括入口、出口和设置在所述入口和所述出口之间的流动通路；

流体歧管，所述流体歧管具有长度、宽度和多个入口端口或出口端口，并且与每个搁架的各自的流动通路流体连通；和

布置在所述歧管内并适于沿着所述歧管的所述长度能够调节地纵向运动的元件。

2.根据权利要求1所述的系统，其中，所述歧管是联接至每个搁架的所述出口的出口流体歧管。

3.根据权利要求1所述的系统，其中，所述歧管是联接到每个搁架的所述入口的入口流体歧管。

4.根据权利要求1所述的系统，其中，能够调节的运动用于允许或阻止热交换流体流过所述搁架中的一个或多个。

5.根据权利要求1所述的系统，其中，所述元件包括连接至塞子的杆，其中，所述塞子的尺寸设置成防止热交换流体流过所述搁架中的一个或多个。

6.根据权利要求5所述的系统，其中，所述元件连接至致动装置。

7.根据权利要求6所述的系统，其中，所述元件与自动或手动样品定位装置相关联。

8.根据权利要求5所述的系统，其中

如果所述元件处于完全缩回位置，则仅允许所述热交换流体流过所述多个水平搁架中的第一个；

如果所述元件处于完全插入位置，则允许所述热交换流体流过所述多个水平搁架的全部；或者

如果所述元件处于部分插入位置，则允许所述热交换流体流过所述多个水平搁架中的超过一个且少于所述多个水平搁架的全部。

9.根据权利要求5所述的系统，其中，所述元件适于被致动到一位置，以防止所述热交换流体流过所述多个搁架的期望数量，并允许所述热交换流体流过所述多个搁架的剩余数量。

10.根据权利要求9所述的系统，其中，所述多个搁架为2至30个搁架，包括2个和30个搁架。

11.根据权利要求1所述的系统，所述系统进一步包括旁通管线、液泵上的变频驱动器和流体流动控制装置中的至少一个。

12.根据权利要求1所述的系统，还包括真空源。

13.根据权利要求1所述的系统，其中，所述系统是冷冻干燥系统。

14.一种控制系统中的搁架温度的方法，所述系统包括：

限定室的壳体；

在所述室内竖直布置的多个水平搁架，每个搁架包含流动通路、入口和出口；

具有长度和宽度并且与每个搁架流体连通的流体歧管；以及

布置在所述歧管内并适于在所述歧管中能够调节地纵向移动的元件；

所述方法包括在所述歧管内能够调节地纵向移动所述元件。

15.根据权利要求14所述的方法，所述方法进一步包括：通过使得流体绕过一个或多个搁架以及调节流体的泵送速率中的至少一种，来控制通过所述搁架的流体流速。