[发明专利]包括静电夹具的装置和用于操作该装置的方法在审

专利信息
申请号: 201980025021.X 申请日: 2019-03-21
公开(公告)号: CN111954852A 公开(公告)日: 2020-11-17
发明(设计)人: M·A·范德凯克霍夫;C·G·N·H·M·克洛因;A·M·亚库宁;A·尼基佩洛维;J·范杜文博德 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;H01L21/683
代理公司: 北京市金杜律师事务所 11256 代理人: 董莘
地址: 荷兰维*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 包括 静电 夹具 装置 用于 操作 方法
【权利要求书】:

1.一种装置,包括用于夹持一组件的静电夹具和用于邻近所述静电夹具生成自由电荷的机构:

其中用于生成自由电荷的所述机构被配置为:在从所述静电夹具的第一激发状态到所述静电夹具的第二激发状态的转变期间,邻近所述静电夹具生成自由电荷。

2.根据权利要求1所述的装置,其中:

所述静电夹具包括被配置为夹持所述组件的夹持区域;以及

当组件被夹持时,在所述夹持区域与所述组件之间生成夹持电场。

3.根据权利要求2所述的装置,其中:

所述静电夹具还包括非夹持区域;以及

当组件被所述夹持区域夹持时,在所述非夹持区域周围生成次级电场。

4.根据权利要求2或3所述的装置,其中所述静电夹具包括至少一个电极,其中当组件被所述静电夹具夹持时,夹持电压被施加到所述至少一个电极,使得在所述夹持区域与所述组件之间生成所述夹持电场。

5.根据权利要求4所述的装置,其中所述静电夹具还包括被配置为提供与所述至少一个电极的电连接的至少一个触点,其中用于生成自由电荷的所述机构被配置为:在从所述静电夹具的所述第一激发状态到所述静电夹具的所述第二激发状态的所述转变期间,邻近所述至少一个触点生成自由电荷。

6.根据权利要求4或5所述的装置,其中在所述第一激发状态中,具有第一极性的电压被施加到所述至少一个电极,并且在所述第二激发状态中,具有与所述第一极性相反的第二极性的电压被施加到所述至少一个电极。

7.根据权利要求6所述的装置,其中所述静电夹具包括至少两个电极,并且其中:

在所述第一激发状态中,具有所述第一极性的电压被施加到所述电极中的第一电极,并且具有所述第二极性的电压被施加到所述电极中的第二电极,以及

在所述第二激发状态中,具有所述第二极性的电压被施加到所述电极中的所述第一电极,并且具有所述第一极性的电压被施加到所述电极中的所述第二电极。

8.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中所述夹具被配置为:使得在所述第一激发状态和所述第二激发状态中的每个激发状态中,组件能够被所述静电夹具夹持。

9.根据前述权利要求中任一项所述的装置,其中用于邻近所述静电夹具生成自由电荷的所述机构包括:气体源,和被配置为使由所述气体源提供的气体电离的电离辐射源。

10.根据权利要求9所述的装置,其中所述电离辐射源包括选自由以下各项组成的组的源:EUV源、VUV源、软X射线源和放射源。

11.一种光刻装置,被布置为将图案从图案形成装置投影到衬底上,其中所述光刻装置包括根据前述权利要求中任一项所述的装置,并且其中所述图案形成装置包括待夹持的所述组件。

12.根据权利要求11所述的光刻装置,还包括:

照射系统,被配置为调节辐射束;

其中所述静电夹具被配置为夹持所述图案形成装置,所述图案形成装置能够在所述辐射束的横截面中向所述辐射束赋予图案,以形成图案化的辐射束;

衬底台,被构造为保持衬底;以及

投影系统,被配置为将所述图案化的辐射束投影到所述衬底上。

13.根据权利要求12所述的光刻装置,其中:

所述光刻装置被配置为执行多次成像曝光,在所述多次成像曝光期间,所述辐射束入射到所述图案形成装置上,并且在所述多次成像曝光期间,所述图案化的辐射束被投影到所述衬底上,所述静电夹具被配置为在所述成像曝光期间夹持所述图案形成装置;以及

在所述多次成像曝光中的连续成像曝光之间,所述静电夹具被配置为从所述第一激发状态转变为所述第二激发状态。

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