[发明专利]抗体纯化

说明书

提供了用于纯化抗体的方法。所提供的纯化方法涉及使用羟基磷灰石树脂(HA)以使感兴趣的抗体与一种或多种杂质物质分离。

本申请要求2018年2月27日提交的美国临时申请号62/635,943的优先权，其内容通过引用整体并入本文。

领域

本发明涉及用于从杂质(例如抗体降解产物)纯化抗体的方法。本文所公开的纯化方法涉及使用羟基磷灰石树脂。

背景

抗体是用于医学、诊断、工业及其他用途的重要生物分子。虽然许多方法和试剂可用于抗体的重组产生，但由于抗体的(例如)大小和分子复杂性，通常，特别是在大规模/工业规模生产水平下，仍难以有效地产生和纯化感兴趣的重组抗体。

例如，在感兴趣的重组抗体的生产中，有时可能出现与感兴趣的抗体相关的降解产物；该降解产物是不想要的杂质。该降解产物可以具有非常类似于感兴趣的抗体的一些分子性质(例如相同或几乎相同的氨基酸序列或质量)。由于感兴趣的完整抗体与抗体的降解形式之间的分子相似性，可能极难有效地将完整抗体与经降解的抗体分离。

因此，需要用于从杂质纯化抗体的新颖并且改进的方法。

概述

本文提供用于从一种或多种杂质纯化感兴趣的抗体的方法。

在一些实施方案中，本文提供纯化抗体的方法，该方法包括：A)将加载缓冲液中的抗体制剂加载至羟基磷灰石(HA)树脂上，其中：该抗体制剂包含：I)感兴趣的完整抗体和II)感兴趣的抗体的修剪形式，其中感兴趣的抗体的该修剪形式为感兴趣的完整抗体的降解产物，并且其质量与感兴趣的完整抗体的质量相差小于10％；和B)用洗脱缓冲液从HA树脂洗脱感兴趣的完整抗体。

在一些实施方案中，本文提供纯化双特异性抗体的方法，该方法包括：A)将加载缓冲液中的抗体制剂加载至羟基磷灰石(HA)树脂上，其中：该抗体制剂包含：I)感兴趣的完整双特异性抗体；和II)至少一种杂质，其中该杂质选自：a)感兴趣的双特异性抗体的修剪形式，其中感兴趣的双特异性抗体的该修剪形式为感兴趣的完整双特异性抗体的降解产物，并且其质量与感兴趣的完整双特异性抗体的质量相差小于10％；b)第一亲本抗体，其中该第一亲本抗体为具有与完整双特异性抗体的第一臂相同的抗原特异性的单特异性抗体；c)第二亲本抗体，其中该第二亲本抗体为具有与完整双特异性抗体的第二臂相同的抗原特异性的单特异性抗体；和d)高分子质量物质(HMMS)；和B)用洗脱缓冲液从HA树脂洗脱感兴趣的完整双特异性抗体。

在一些实施方案中，本文提供纯化双特异性抗体的方法，该方法包括：A)将加载缓冲液中的抗体制剂加载至羟基磷灰石(HA)树脂上，其中：I)该抗体制剂包含：a)感兴趣的完整双特异性抗体和b)感兴趣的双特异性抗体的修剪形式，其中感兴趣的抗体的该修剪形式为感兴趣的完整双特异性抗体的降解产物，并且其质量与感兴趣的完整双特异性抗体的质量相差小于10％；和II)该抗体制剂中修剪的双特异性抗体的分子与完整双特异性抗体分子的比率在至少1:50与不大于1:5之间；B)用洗脱缓冲液从HA树脂洗脱完整双特异性抗体。在一些实施方案中，该方法进一步包括步骤C)收集从HA树脂洗脱的纯化级分，其中该经纯化的级分包含完整双特异性抗体。