[发明专利]浓度测定方法及浓度测定装置在审
申请号: | 201980013216.2 | 申请日: | 2019-01-17 |
公开(公告)号: | CN111727495A | 公开(公告)日: | 2020-09-29 |
发明(设计)人: | 中村共则 | 申请(专利权)人: | 浜松光子学株式会社 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01N21/3581 |
代理公司: | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人: | 杨琦;黄浩 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 浓度 测定 方法 装置 | ||
本发明是一种测量杂质浓度的浓度测定方法,其具备如下步骤:朝向作为测定对象物的DUT(10),照射测量光及以包含既定频率的调制信号进行强度调制所得的刺激光;检测来自DUT(10)的反射光或透过光的强度并输出检测信号;及检测相对于调制信号的检测信号的相位延迟,求出相位延迟成为特定值的频率,并基于该频率推定测定对象物的杂质浓度。
技术领域
本发明关于一种测量测定对象物的杂质浓度的浓度测定方法及浓度测定装置。
背景技术
以往,已知有用以进行太阳能电池等测定对象物的特性评价的装置(例如参照下述专利文献1)。该装置包含将脉冲状的泵浦光照射至测定对象物的泵浦光源、将探测光连续照射至测定对象物的探测光源、实时地检测照射至测定对象物的探测光的光检测器、及处理自光检测器输出的信号的信号处理部。根据此种构成,可通过测量载流子量的时间变化,而测定载流子的产生消失状况。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2016-157780号公报
发明内容
[发明所要解决的问题]
在如上所述的现有的装置中,可测量载流子量的时间变化,但难以将杂质浓度未知的测定对象物作为对象测量准确的杂质浓度。
实施方式的课题在于提供一种可精度良好地对测定对象物中的杂质浓度进行测定的浓度测定方法及浓度测定装置。
[解决问题的技术手段]
本发明的一形态为测量测定对象物的杂质浓度的浓度测定方法,其具备:照射步骤,其朝向测定对象物,照射测量光、及以包含既定频率的调制信号进行强度调制所得的刺激光;输出步骤,其检测来自测定对象物的反射光或透过光的强度并输出检测信号;及推定步骤,其对检测信号相对于调制信号的相位延迟进行检测,求出相位延迟成为特定值的频率,并基于该频率推定测定对象物的杂质浓度。
或者,本发明的另一形态为测量测定对象物的杂质浓度的浓度测定装置,其具备:第1光源,其产生测量光;第2光源,其产生刺激光;调制部,其以包含既定频率的调制信号对刺激光进行强度调制;光检测器,其检测来自测定对象物的反射光或透过光的强度并输出检测信号;光学系统,其将测量光及经强度调制的刺激光朝向测定对象物导引,并将来自测定对象物的反射光或透过光朝向光检测器导引;及解析部,其对检测信号相对于调制信号的相位延迟进行检测,求出相位延迟成为特定值的频率,并基于该频率推定测定对象物的杂质浓度。
根据上述任一形态,将测量光及以包含既定频率的调制信号进行强度调制所得的刺激光照射至测定对象物,检测来自测定对象物的反射光或透过光的强度,并基于其结果被输出的检测信号,推定测定对象物的杂质浓度。此时,基于检测信号相对于调制信号的相位延迟,推定相位延迟成为特定值的频率,并基于该频率推定杂质浓度,故而即便在杂质浓度未知的情形时,也可精度良好地测定对应于载流子生命期的杂质浓度。
[发明的效果]
根据实施方式,可精度良好地测定测定对象物中的杂质浓度。
附图说明
图1为实施方式的浓度测定装置1的概略构成图。
图2为表示图1的控制器37的功能构成的方块图。
图3为自相对于测量光及刺激光的光轴垂直的方向观察DUT10中的测量光及刺激光的照射状态所得的图。
图4为自相对于测量光及刺激光的光轴垂直的方向观察DUT10中的测量光及刺激光的照射状态所得的图。
图5为表示通过浓度测定装置1产生的刺激光及检测信号的时间变化的波形的图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造