[实用新型]一种阵列基板有效

专利信息
申请号: 201922472213.5 申请日: 2019-12-31
公开(公告)号: CN211149140U 公开(公告)日: 2020-07-31
发明(设计)人: 王欢;韦培海;张泽鹏;马亮 申请(专利权)人: 信利(仁寿)高端显示科技有限公司
主分类号: G02F1/1362 分类号: G02F1/1362;G02F1/1337
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 刘爱珍
地址: 620500 四*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 阵列
【权利要求书】:

1.一种阵列基板,其特征在于,包括显示区域以及位于显示区域外的快检区域;快检区域与显示区域先后依次位于摩擦辊的摩擦配向方向上;所述快检区域内设置多个用于测试阵列基板的快检PAD,所述快检PAD包括快检孔,所述快检孔之间的间距在40微米以上。

2.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述快检孔的直径不超过6微米。

3.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,每平方毫米所述快检区域的快检孔的数量不超过300个。

4.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述快检区域包括下至上依次排列的基板、金属层、绝缘层、ITO层;所述快检孔开设于绝缘层,所述ITO层与所述金属层电性连接。

5.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述阵列基板内设有与显示区域电性连接的显示走线,所述快检PAD与所述显示走线电性连接,用于测试阵列基板。

6.根据权利要求4所述的阵列基板,其特征在于,所述绝缘层是SiNx层。

7.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述快检区域在摩擦配向方向的垂直方向上的投影位于显示区域在摩擦配向方向的垂直方向上的投影之内。

8.根据权利要求1所述的阵列基板,其特征在于,所述快检区域在摩擦配向方向的垂直方向上的投影不完全位于显示区域在摩擦配向方向的垂直方向上的投影之内。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利(仁寿)高端显示科技有限公司,未经信利(仁寿)高端显示科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922472213.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top