[实用新型]一种碳纳米管表面处理装置

权利要求书

1.一种碳纳米管表面处理装置，其特征在于，包括反应装置、传送装置和烘干装置(1)，所述传送装置设置于所述反应装置下部，所述传送装置一端设置于所述烘干装置(1)内，所述反应装置包括反应箱(2)，所述反应箱(2)的上部设置有液体进料口(3)和固体进料口(4)，所述反应箱(2)内部设置有搅拌装置(5)，所述反应箱(2)侧壁上设置有排液管(6)，所述反应箱(2)下部设置有储液箱(7)，所述反应箱(2)与所述储液箱(7)通过所述排液管(6)连通，所述储液箱(7)下部设置有排液口(8)，所述排液口(8)设置于所述传送装置上部。

2.如权利要求1所述的碳纳米管表面处理装置，其特征在于，所述排液管(6)从上到下依次设置有至少四级，四级所述排液管(6)的末端相连通。

3.如权利要求2所述的碳纳米管表面处理装置，其特征在于，所述排液管(6)上设置有第一电磁阀(9)。

4.如权利要求1所述的碳纳米管表面处理装置，其特征在于，所述传送装置包括滚轮(10)、传送带(11)和电机，所述电机的输出轴与所述滚轮(10)连接，所述传送带(11)套设于所述滚轮(10)上，所述传送带(11)的一端设置于所述烘干装置(1)内。

5.如权利要求4所述的碳纳米管表面处理装置，其特征在于，所述传送带(11)上从上到下依次设置有滤膜层(12)、基体层(13)和亲水层(14)。

6.如权利要求4所述的碳纳米管表面处理装置，其特征在于，所述排液口(8)设置为斧形，所述斧形的宽度小于所述传送带(11)的宽度。

7.如权利要求1所述的碳纳米管表面处理装置，其特征在于，所述储液箱(7)设置为倒锥形。

8.如权利要求1所述的碳纳米管表面处理装置，其特征在于，所述液体进料口(3)上设置有第二电磁阀(16)和计量泵(15)，所述固体进料口(4)上设置有所述计量泵(15)。

9.如权利要求1所述的碳纳米管表面处理装置，其特征在于，所述液体进料口(3)设置有3个。