[实用新型]一种硅片去胶装置有效

专利信息
申请号: 201922425131.5 申请日: 2019-12-30
公开(公告)号: CN211707536U 公开(公告)日: 2020-10-20
发明(设计)人: 陈正;刘昭;周亮亮 申请(专利权)人: 江苏国源激光智能装备制造有限公司
主分类号: B08B3/02 分类号: B08B3/02;B08B3/08;F26B21/00
代理公司: 北京化育知识产权代理有限公司 11833 代理人: 尹均利
地址: 223800 江苏省宿迁市宿*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 硅片 装置
【说明书】:

实用新型公开了一种硅片去胶装置,底座本体,底座本体上部具有污水槽和气室,底座本体一侧设置有污水排水管和真空发生器,污水槽和气室的两侧设置有支撑板,气室上部设置有真空吸附模板,真空吸附模板上部具有真空吸附孔,真空吸附模板与支撑板之间设置有固定板,支撑板顶部滑动连接有横梁,横梁上部设置有升降板,升降板中间设置有气缸,气缸穿过横梁和升降板连接有去胶滚筒,支撑板两侧自上而下依次设置有溶解液进口管、清洗水进口管和热风进口管。本实用新型的有益效果是:本实用新型设计合理,结构简单稳定,实用性强;能够用于不同大小,不同厚度的硅片进行去胶,去胶更彻底、洁净,提高硅片后续加工的便捷与硅片的性能。

技术领域

本实用新型涉及硅片技术领域,具体为一种硅片去胶装置。

背景技术

在硅片加工过程中,需要将大规格的硅条根据需求切割成不同大小和形状,为了防止切割过程中硅片发生偏移,影响切割精度和效果,需要将硅条粘接到玻璃板上固定然后进行切割。

切割完成后的硅片单元会残存有粘胶渍、废屑和灰尘等异物,如果不清除会影响后续加工,导致硅片的性能大大下降。

实用新型内容

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种硅片去胶装置。

本实用新型通过以下技术方案来实现上述目的:一种硅片去胶装置,底座本体,所述底座本体上部具有污水槽和气室,所述底座本体一侧设置有污水排水管和真空发生器,所述污水排水管与所述污水槽相连通,所述真空发生器与所述气室相连通,所述污水槽和所述气室的两侧设置有支撑板,所述气室上部设置有真空吸附模板,所述真空吸附模板上部具有真空吸附孔,所述真空吸附模板与所述支撑板之间设置有固定板,所述支撑板设置有第一调节螺栓,所述第一调节螺栓穿过支撑板连接至所述固定板,所述支撑板顶部滑动连接有横梁,所述横梁上部设置有升降板,所述升降板中间设置有气缸,所述气缸穿过所述横梁和所述升降板连接有去胶滚筒,所述升降板两端设置有第二调节螺栓,所述第二调节螺栓穿过所述升降板与所述横梁相连接,所述支撑板两侧自上而下依次设置有溶解液进口管、清洗水进口管和热风进口管。

进一步的,所述支撑板位于所述气室的一端设置有挡板。

进一步的,所述溶解液进口管、所述清洗水进口管和所述热风进口管都各自至少设置有三个。

进一步的,所述真空吸附模板两端设置有密封板。

进一步的,所述所述真空发生器吸附压力为所述溶解液进口管处、所述清洗水进口管处和所述热风进口管处压力的两倍。

本实用新型的有益效果是:本实用新型设计合理,结构简单稳定,实用性强;设置的真空发生器,成本较低,使用的限制条件较小,只需要有压缩空气就可以转化为吸附力,吸附力稳定;设置的溶解液进口管、清洗水进口管和热风进口管能够分别对硅片进行溶胶、清洗、和烘干,使得去胶更彻底、干净,提高硅片后续加工的便捷以及性能;如需去胶的硅片规格不一,能够通过更换不同的真空吸附模板来实现去胶,更换便捷;设置的升降板,能够调节气缸的高度用于不同厚度的硅片去胶。

附图说明

图1是本实用新型的立体结构示意图;

图2是本实用新型的俯视图;

图3是图2中沿A-A剖开的截面示意图。

图中:1-底座本体、2-污水槽、3-气室、4-污水排水管、5-真空发生器、6-支撑板、7-真空吸附模板、8-真空吸附孔、9-固定板、10-第一调节螺栓、11-横梁、12-升降板、13-气缸、14-去胶滚筒、15-第二调节螺栓、16-溶解液进口管、17-清洗水进口管、18-热风进口管、19-挡板、20-密封板。

具体实施方式

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