[实用新型]一种应用于原位化学氧化修复中控制污染迁移的修复系统

说明书

本实用新型涉及一种应用于原位化学氧化修复中控制污染迁移的修复系统，包括待修复的场地，在所述场地污染范围的最大边界建设止水帷幕，所述止水帷幕位于场地的地面以下，所述场地的地面以上与止水帷幕相对的地方设置有围墙；在止水帷幕内侧建设注入井，所述注入井在地面以上采用防腐蚀软管连接药剂罐，所述注入井内设置有筛管，所述筛管和防腐蚀软管通过三通管连接；所述注入井场地内侧进行原位化学氧化布孔。本实用新型解决污染范围边界紧邻地上构筑物或者污染范围边界地下建设有阻隔墙，由于实际施工设备的限制导致的土壤修复不彻底或者由于修复造成的污染土壤向外迁移而引起的二次污染的问题。

技术领域

本实用新型涉及环境修复技术领域，具体是一种应用于原位化学氧化修复中控制污染迁移的修复系统。

背景技术

近年来，随着城市产业结构调整，为了保护城市环境提高对土地的利用效率，大量重工业和高污染企业停产或者由市区搬迁至郊区，随之国家出台的一些列政策规定，各级环保部门要按照相关法规要求积极组织和督促场地使用权人等相关责任人委托专业机构开展关停搬迁企业原址场地的环境调查和风险评估工作，经评估确定为污染场地的应进行修复，同时有关文件指出“被污染场地再次进行开发利用的，应进行环境评估和无害化治理”，由此可见，污染土壤和地下水治理修复的需求将越来越大。

目前针对土壤和地下水的修复方法主要分为原位修复和异位修复2种类型，异位修复主要是将土壤从原地移走，在其余场地或者设备内进行修复处置。原位修复是指土壤在原地进行修复，它包括原位搅拌、原位注入（注射）等。异位修复存在开挖和运输过程中容易产生二次污染的缺点，因此原位修复技术的应用更为广泛。美国环境保护署（EPA）最新的调查资料显示，原位化学氧化(In Sim ChemicalOxidation，ISCO)技术已被成功应用于数千个污染场地的修复，近年来的场地修复案例中，ISCO技术约占33％，并且有日益增加的趋势，成为目前发展最迅速的土壤/地下水主导修复技术。

原位搅拌化学氧化是一种常用的原位修复技术，即向土壤中注入氧化剂，利用搅拌设备对土壤迸行原位强力搅拌，搅拌使土壤结构疏松，孔隙度增大，配合喷洒药剂可使药剂均匀的散布于污染土壤中，原位搅拌技术不受修复土壤粒径的限制，可以处理各种粒径的污染土壤，但原位搅拌设备存在一个搅拌影响半径的问题，它不同于原位注入药剂的原理，是因为原位注入是靠液体药剂在土壤空隙中的扩散作用来去除污染物。而原位搅拌是利用机械的动力作用将污染土壤分散的同时增大氧化剂与污染物的接触面积从而将污染物去除，这就存在着原位搅拌在一定程度上会将污染土壤迁移至污染范围以外而造成二次污染的问题。

申请号为201410831123 .X(申请公布号CN104624629A、申请公布日2015年5月20日)的实用新型专利申请公开了“一种采用双向搅拌注入法修复有机物污染场地的方法”的专利技术，该专利通过钻杆添加氧化剂和催化剂等药剂并双向搅拌，实质为深层搅拌技术，对于浅层污染土壤及地下水存在影响半径，若布孔中心在污染范围边界则存在污染土壤会通过搅拌向外扩撒，若布孔中心远离污染范围边界则存在修复不彻底的问题。同时实际修复工程施工中存在由于机械设备自身的操作半径导致修复无法精确地达到边界而造成修复不彻底的问题。尤其是在污染范围边界有建筑物或者有围墙或者污染范围边界建设有地下连续墙的情况下，能够精确地将污染土壤进行彻底修复而不对地上或地下构筑物造成破坏在修复工程实施上是一个共性的难题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种解决污染范围边界紧邻地上构筑物或者污染范围边界地下建设有阻隔墙，由于实际施工设备的限制导致的土壤修复不彻底或者由于修复造成的污染土壤向外迁移而引起的二次污染的问题的应用于原位化学氧化修复中控制污染迁移的修复系统。

本实用新型的技术方案：