[实用新型]一种连续式镀膜设备基片架

说明书

本实用新型公开了一种连续式镀膜设备基片架，具有：架体；箱体，设置在架体上，箱体内设有可供基片架滑动输送的通道；滚轴，箱体内设有一系列滚轴，基片架能够在滚轴上滑动；伺服电机，与滚轴连接；光电传感器，设置在箱体上，光电传感器能够感应箱体内基片架的位置，使基片架在镀膜箱体内无间距输送，镀膜箱体内就可以多容纳一部基片架，不仅节约了靶材的浪费，同时提高镀膜设备的产量。

技术领域

本实用新型属于连续式镀膜设备技术领域，尤其涉及一种连续式镀膜设备基片架。

背景技术

在实现本实用新型的过程中，发明人发现现有技术至少存在以下问题：

目前镀膜设备的基片架都是保持一定间距运动，这种方式不仅造成靶材的溅射浪费，也无法提高生产产量，效率太低。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种使基片架在镀膜箱体内无间距输送，镀膜箱体内就可以多容纳一部基片架，不仅节约了靶材的浪费，同时提高镀膜设备的产量的连续式镀膜设备基片架。

为了解决上述技术问题，本实用新型所采用的技术方案是：一种连续式镀膜设备基片架，具有：

架体；

箱体，设置在所述架体上，所述箱体内设有可供基片架滑动输送的通道；

滚轴，箱体内设有一系列滚轴，所述基片架能够在所述滚轴上滑动；

伺服电机，与所述滚轴连接；

光电传感器，设置在所述箱体上，所述光电传感器能够感应箱体内基片架的位置。

所述箱体的顶部设有一系列光电传感器，所述光电传感器能够感应箱体内光电传感器附近的基片架的位置。

每个滚轴均通过一个伺服电机驱动。

所述伺服电机能够实时改变所述滚轴的转速。

上述技术方案中的一个技术方案具有如下优点或有益效果，使基片架在镀膜箱体内无间距输送，镀膜箱体内就可以多容纳一部基片架，不仅节约了靶材的浪费，同时提高镀膜设备的产量。

附图说明

图1为本实用新型实施例中提供的连续式镀膜设备基片架的结构示意图；

上述图中的标记均为：1、架体，2、箱体，3、基片架，4、光电传感器，5、滚轴。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合附图对本实用新型实施方式作进一步地详细描述。

参见图1，一种连续式镀膜设备基片架，具有：

架体；

箱体，设置在架体上，箱体内设有可供基片架滑动输送的通道；

滚轴，箱体内设有一系列滚轴，基片架能够在滚轴上滑动；

伺服电机，与滚轴连接；

光电传感器，设置在箱体上，光电传感器能够感应箱体内基片架的位置。

箱体的顶部设有一系列光电传感器，光电传感器能够感应箱体内光电传感器附近的基片架的位置。

每个滚轴均通过一个伺服电机驱动。

伺服电机能够实时改变滚轴的转速。

镀膜箱体内的所有传动电机均为伺服电机，保证传动速度的统一，不会造成间距忽大忽小。伺服电机采用位置控制，在基片架进入镀膜室之前，计算前一个基片架的位置，后一个基片架通过PLC计算，在通过光电传感器控制规定的范围，加速追上前一个，当后一个追上之后，两个基片架保持同速运动。