[实用新型]一种氧化铌靶材

说明书

本实用新型提供了一种氧化铌靶材，包括铜板，所述铜板包括正面和背面，所述铜板的正面设有嵌合槽，所述嵌合槽内嵌合有由若干块氧化铌拼接而成的靶材，所述靶材与嵌合槽槽底之间设有一层金属铟，沿着所述铜板边沿设有若干固定通孔，所述铜板的背面设有水冷槽。本实用新型靶材结构简单、设计合理，可满足对靶材较大尺寸的要求，此外，铜板和水冷槽的设计使得靶材的散热效果好，从而可防止溅射过程中靶材龟裂甚至断裂而影响溅射。

技术领域

本实用新型涉及磁控溅射技术领域，具体而言，涉及一种氧化铌靶材。

背景技术

氧化铌溅射靶材是制备高折射率薄膜的溅射材料，应用在液晶显示器(LCD)、等离子显示器(PDP)、触摸屏(Touch Panel)、光学镜片等方面。随着半导体技术的迅猛发展，以及为了达到更好的溅射效果，对靶材的尺寸要求也相应增长（有时其长度需达到1米以上），因现有设备限制且为了生产方便，现有的靶材的尺寸较小（一般长度为0.2~0.4米）无法满足一些溅射镀膜要求，此外，氧化铌靶材在溅射过程中的因断裂而影响后续溅射也是亟待解决的一个问题。

鉴于此，本申请发明人发明了一种氧化铌靶材。

发明内容

本实用新型的目的在于提供一种结构简单、设计合理，可有效防止靶材龟裂甚至断裂的氧化铌靶材。

为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案：一种氧化铌靶材，包括铜板，所述铜板包括正面和背面，所述铜板的正面设有嵌合槽，所述嵌合槽内嵌合有由若干块氧化铌拼接而成的靶材，所述靶材与嵌合槽槽底之间设有一层金属铟，沿着所述铜板边沿设有若干固定通孔，所述铜板的背面设有水冷槽。

进一步地，所述水冷槽的位置与嵌合槽的位置相对应。

进一步地，所述水冷槽包括多个，相邻水冷槽内的水流方向相反。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型靶材结构简单、设计合理，可满足对靶材较大尺寸的要求，此外，铜板和水冷槽的设计使得靶材的散热效果好，从而可防止溅射过程中靶材龟裂甚至断裂影响而溅射。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施方式的技术方案，下面将对实施方式中所需要使用的附图作简单地介绍，应当理解，以下附图仅示出了本实用新型的某些实施例，因此不应被看作是对范围的限定，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1是本实用新型靶材立体状态示意图；

图2是本实用新型靶材正面示意图；

图3是图2中A-A方向剖视图；

图4是本实用新型靶材背面示意图。

主要元件符号说明

10-铜板，

11-嵌合槽，12-固定通孔，13-水冷槽，

20-靶材，

30-金属铟。

具体实施方式