[实用新型]一种喷嘴高度的微调装置

说明书

本实用新型公开了一种喷嘴高度的微调装置，包括底座、活塞块、旋钮和喷嘴；所述底座设置有进气通道和出气通道，所述进气通道和出气通道上下交错设置，所述活塞块设置有导气通道，所述导气通道的一端与出气通道相通，所述导气通道的另一端与进气通道相通，所述活塞块与旋钮上下滑动连接，转动旋钮可使活塞块上下移动，所述喷嘴可与活塞块固定连接。本实用新型所述的一种用于控制进气量的微调装置，能够实现喷嘴的上下微小调整，保证镀膜质量。

技术领域

本实用新型涉及一种微调装置，尤其涉及一种喷嘴高度的微调装置。

背景技术

在对晶元喷气镀膜时，需要控制气嘴与晶元之间的距离，以保证晶元的镀膜效果。调节气嘴与晶元之间的距离能够调节晶元与气嘴之间的气体浓度。但是气嘴与晶元之间的距距离不能大幅度调节，否则会产生较大的偏差。

发明内容

发明目的：为了克服现有技术中存在的不足，本实用新型提供一种喷嘴高度的微调装置，以实现对气嘴与晶元之间距离的微调。

技术方案：为实现上述目的，本实用新型的一种喷嘴高度的微调装置，包括底座、活塞块和旋钮；所述底座设置有进气通道和出气通道，所述进气通道和出气通道上下交错设置，所述活塞块设置有导气通道，所述导气通道的一端与出气通道相通，所述导气通道的另一端与进气通道相通，所述活塞块与旋钮上下滑动连接，转动旋钮可使活塞块上下移动。

进一步地，还包括支撑座；所述支撑座连接于所述底座的上表面，所述底座设置有与进气通道和出气通道相通的下通腔，所述支撑座设置有上通腔，所述上通腔与下通腔相通，所述活塞块滑动连接于所述上通腔和下通腔中。

进一步地，所述旋钮旋转连接于所述上通腔的顶部，所述活塞块的顶端通过螺纹与旋钮连接。

进一步地，所述活塞块包括本体和连接块，所述连接块与本体固定，所述连接块通过螺纹与旋钮连接。

进一步地，所述活塞块的底部设置有第一空腔，所述第一空腔与出气通道相通，所述第一空腔的侧壁上设置有若干进气孔，所述进气孔与所述进气通道相通，所述进气孔与第一空腔连通组成导气通道。

进一步地，所述第一空腔的底部连接有喷嘴，所述喷嘴滑动连接于出气通道中。

有益效果：本实用新型的一种喷嘴高度的微调装置，所述活塞上下移动，同时带动喷嘴上下移动，从而能够调节喷嘴与晶元之间的距离；所述活塞块通过螺纹与旋钮连接，扭动旋钮就能实现活塞块的上下移动，从而实现喷嘴的微调。

附图说明

附图1为本实用新型的结构示意图；

附图2为本实用新型的结构俯视图；

附图3为附图2中A-A的结构剖视图；

附图4为附图2中B-B的结构剖视图；

附图5为本实用新型的结构爆炸图；

附图6为本实用新型所述本体的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图1至附图6对本实用新型作更进一步的说明。