[实用新型]清洁装置及光刻设备

说明书

本实用新型公开了一种清洁装置及光刻设备，该清洁装置包括：安装架、动力元件、连接件和清洁石，动力元件设置在安装架上，连接件包括活动板和连接杆，活动板的一端与动力元件的输出轴连接，连接杆的一端连接至活动板的另一端，连接杆的另一端与清洁石连接。上述的清洁装置能够提高吸盘清洁效率，提高光刻设备产率。相应地，本实用新型还提供一种光刻设备。

技术领域

本实用新型涉及集成电路制造领域，尤其涉及一种清洁装置及光刻设备。

背景技术

光刻设备中长时间上下硅片及对准曝光过程中，不可避免会有一些污染颗粒或者光刻胶一类的残留物残留在承片台的吸盘上，导致吸盘上有“凸点”，在吸盘上有“凸点”的条件下进行上片，在检测硅片面型调平调焦时会因为硅片上表面面型不达标而报错。传统技术中，遇到此类情况，会把运动台拉出，手动用清洁石去清洁吸盘上的“凸点”，清洁完成后再将运动台推进去进行上片检测，直到硅片上表面面型检测合格为止。然而，该种方式通过人工手动清洁吸盘，人工劳动强度大、清洁效率低，且运动台推进推出耗时较长，极大的影响光刻设备产率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提出一种清洁装置及光刻设备，能够提高吸盘的清洁效率，提高光刻设备的产率。

为达此目的，一方面，本实用新型采用以下技术方案：

一种清洁装置，包括：安装架、动力元件、连接件和清洁石，所述动力元件设置在所述安装架上，所述连接件包括活动板和连接杆，所述活动板的一端与所述动力元件的输出轴连接，所述连接杆的一端连接至所述活动板的另一端，所述连接杆的另一端与所述清洁石连接。

在其中一个实施中，所述清洁装置还包括：防撞复位件，所述防撞复位件分别与所述安装架和所述活动板连接。

在其中一个实施中，所述防撞复位件包括第一拉簧支柱、第二拉簧支柱和拉簧，所述第一拉簧支柱与所述安装架连接，所述第二拉簧支柱与所述活动板连接，所述拉簧分别与所述第一拉簧支柱和所述第二拉簧支柱连接。

在其中一个实施中，所述清洁装置还包括：第一限位开关和第二限位开关，所述第一限位开关和所述第二限位开关均设置在所述安装架上，且所述第一限位开关和所述第二限位开关分别沿所述活动板的运动方向设置在所述活动板的两侧。

在其中一个实施中，所述清洁装置还包括：配重板，所述配重板设置在所述清洁石上。

在其中一个实施中，所述连接件还包括锁紧螺母，所述活动板上开设有安装通孔，所述连接杆的一端穿过所述安装通孔与所述锁紧螺母连接。

在其中一个实施中，所述安装通孔的孔径大于所述连接杆的直径。

在其中一个实施中，所述动力元件为气缸。

在其中一个实施中，所述清洁装置还包括节流阀，所述节流阀与所述气缸连接。

在其中一个实施中，所述清洁石采用陶瓷制成。

另一方面，本实用新型还提供一种光刻设备，包括上述任一项所述的清洁装置。