[实用新型]一种用于PCVD沉积车床的基管防变形装置

说明书

本实用新型涉及一种用于PCVD沉积车床的基管防变形装置，其结构包括泵端载台、导轨、密封装置底座，导轨一端的载台上设有定位挡板，导轨另外一端的载台上设有限位板；定位挡板同侧的泵端载台上设有防变形弹性件，防变形弹性件包括导杆、弹簧、固定底座，固定底座活动安装在泵端载台上，导杆间隙穿过固定底座，弹簧套设在导杆上，导杆与所述密封装置底座位于同一水平高度。本实用新型利用压缩导杆时弹簧产生的回复力来平衡、抵消导轨和导轨滑块之间的摩擦力，降低了基管受热延长变形时发生弯折，保证了光纤预制棒的质量，且由于弹簧恢复变形的形变量是有限的，避免了导轨滑块在导轨上过度滑动导致的泵端旋转密封装置与基管脱离。

技术领域

本实用新型涉及光纤预制棒制造工艺设备技术领域，具体涉及一种用于PCVD沉积车床的基管防变形装置。

背景技术

微波等离子体沉积工艺技术(PCVD)是光纤预制棒制造工艺技术之一，是使用微波等离子体产生热源，在基管内进行化学气相沉积的工艺技术。在PCVD沉积车床中，基管穿过位于保温炉内的等离子体谐振腔内孔，基管夹持于PCVD沉积车床上，基管气端通过与基管焊接在一起的石英玻璃导气管与气端旋转密封装置密封连接，泵端通过与基管焊接在一起的石英玻璃尾管与泵端旋转密封装置密封连接。

在工艺沉积前及工艺结束后，需要将连接有石英玻璃导气管和石英玻璃尾管的基管自等离子体谐振腔内孔穿过或抽出，因此，PCVD沉积车床的气端旋转密封装置一般固定在气端载台上，且不可移动；泵端旋转密封装置则安装于泵端载台的直线导轨上，并可沿基管轴向方向前后移动。在工艺沉积过程中，保温炉内温度保持在1000-1200℃，工艺气体通过气端旋转密封装置通入基管内，等离子体谐振腔在保温炉内沿基管轴向做快速往返移动，并激发基管内的反应气体形成等离子体，进而进行化学反应，所产生的二氧化硅、二氧化锗等附着在基管内壁形成玻璃，化学反应后的气体通过连接在泵端旋转密封装置后端的真空泵排出。

等离子体谐振腔在激发产生等离子体过程中对基管会形成加热过程，同时，基管在保温炉的升温过程中也会产生受热膨胀，将导致基管产生形变，尤其是沿基管轴向产生延长形变，这将对泵端旋转密封装置形成推力。在实际生产中，包含旋转密封接头、水冷却装置及截止阀等原件的泵端旋转密封装置与直线导轨间存在一定的摩擦力，因此，基管的延长形变将会导致基管受到来自密封装置的轴向压力，这将会对基管产生一定的挤压变形，从而影响光纤预制棒的质量。

现有技术中，在泵端旋转密封装置的底座一侧设置重力块，通过重力块牵引泵端旋转密封装置的底座平衡泵端旋转密封装置的底座与直线导轨之间的摩擦，但是该方法存在一个问题，重力块可能会牵引泵端旋转密封装置与基管脱离，造成工艺失败；此外，工艺生产前需要将重力块放置到位，工艺结束旋松锁紧螺母之前，也需要取下重力块，由于这一过程是人工操作，可能会存在工艺前忘记放置重力块或者工艺结束旋松锁紧螺母前忘记取下重力块的问题。

发明内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供了一种用于PCVD沉积车床的基管防变形装置，提升光纤预制棒的质量以及降低操作失误的问题，本实用新型的技术目的是通过以下技术方案实现的：

一种用于PCVD沉积车床的基管防变形装置，其结构包括泵端载台、导轨、密封装置底座，导轨固定在载台上表面，密封装置底座底部设有导轨滑块，导轨滑块活动安装在导轨上，导轨滑块可以沿导轨滑动；导轨一端的载台上设有定位挡板，导轨另外一端的载台上设有限位板；定位挡板同侧的泵端载台上设有防变形弹性件，防变形弹性件包括导杆、弹簧、固定底座，固定底座活动安装在泵端载台上，导杆间隙穿过固定底座，弹簧套设在导杆上，导杆与所述密封装置底座位于同一水平高度。

进一步地，固定底座上设有滑套，滑套呈圆筒状，导杆间隙穿过所述滑套内，导杆可以在滑套内滑动。

进一步地，导杆一端设有限位块，弹簧置于限位块和固定底座之间。

进一步地，固定底座呈L型，固定底座底部设有腰形孔，固定底座通过紧固件穿过腰形孔固定在泵端载台上。