[实用新型]一种等离子刻蚀机的匀气盘

说明书

本实用新型公开了一种等离子刻蚀机的匀气盘，包括匀气盘本体，所述匀气盘本体内部包括有固定盘，所述固定盘内部开设有中透气孔，所述固定盘内部开设有第一调气孔，所述固定盘上端固定连接有导风块，所述固定盘下端开设有活动槽，所述固定盘内部开设有定位槽，且定位槽与活动槽内部相互连通，所述活动槽内部活动连接有活动块，所述活动块外侧固定连接有定位滑块，所述定位滑块下端固定连接有调节盘，所述调节盘内部从内至外依次开设有中透气孔与第二调气孔，所述调节盘边缘内部开设有通孔，所述固定盘边缘内部开设有固定孔。该等离子刻蚀机的匀气盘，增加了整体的灵活性，方便对整体进行调节，同时整体结构稳定，整体方便进行操作。

技术领域

本实用新型涉及等离子刻蚀机技术领域，具体为一种等离子刻蚀机的匀气盘。

背景技术

等离子刻蚀机，又叫等离子蚀刻机、等离子平面刻蚀机、等离子体刻蚀机、等离子表面处理仪、等离子清洗系统等。等离子刻蚀，是干法刻蚀中最常见的一种形式，其原理是暴露在电子区域的气体形成等离子体，由此产生的电离气体和释放高能电子组成的气体，从而形成了等离子或离子，电离气体原子通过电场加速时，会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面。

但是现有的等离子刻蚀机匀气盘，整体的结构是固定的，所以无法根据具体的情况进行调整，降低了整体的灵活性，且需要对整体的出风位置进行调整时需要将匀气盘拆卸下来才可以进行调整，增加了整体的调节的难度，从而降低了整体实用性。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种等离子刻蚀机的匀气盘，以解决上述背景技术中提出现有的等离子刻蚀机匀气盘，整体的结构是固定的，所以无法根据具体的情况进行调整，降低了整体的灵活性，且需要对整体的出风位置进行调整时需要将匀气盘拆卸下来才可以进行调整，增加了整体的调节的难度，从而降低了整体实用性的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种等离子刻蚀机的匀气盘，包括匀气盘本体，所述匀气盘本体内部包括有固定盘，所述固定盘内部开设有中透气孔，所述固定盘内部开设有第一调气孔，且第一调气孔位于中透气孔外侧，所述固定盘上端固定连接有导风块，且导风块位于第一调气孔外侧，所述导风块相互之间预留有导风槽，所述固定盘下端开设有活动槽，所述固定盘内部开设有定位槽，且定位槽与活动槽内部相互连通，所述活动槽内部活动连接有活动块，所述活动块外侧固定连接有定位滑块，且定位滑块与定位槽滑动连接，所述定位滑块下端固定连接有调节盘，所述调节盘内部从内至外依次开设有中透气孔与第二调气孔，所述调节盘边缘内部开设有通孔，所述固定盘边缘内部开设有固定孔。

优选的，所述固定盘与调节盘均为圆盘形结构，且固定盘与调节盘的直径相等，所述固定盘与调节盘内部的中透气孔环形等间距分布。

优选的，所述第一调气孔在固定盘内部环形等间距分布，且第一调气孔与第二调气孔的规格一致。

优选的，所述导风块在固定盘上端环形等间距分布有三组，且导风块外侧与第一调气孔和固定孔不贴合。

优选的，所述活动块与活动槽采用表面光滑设计，且活动块外侧定位滑块在活动块内侧和外侧两端分布，所述定位滑块与定位槽对应分布。

优选的，所述通孔与固定孔对应分布，且通孔的直径大于固定孔的直径。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：该等离子刻蚀机的匀气盘，通过使用固定盘和调节盘之间的相互运动，使整体的出气位置可以进行调整，从而增加了整体出气的均匀度，由于固定盘与调节盘内部的调气孔位置分布不是相对的，调节盘内部的调气孔位置发生变化时会调整整体的出气位置，从而控制整体的出气量，增加了整体的实用性，且该匀气盘在安装过后依然可以通过转动调节盘对整体的出气进行调整，从而增加了整体的灵活性，方便对整体进行调节，同时整体结构稳定，整体方便进行操作，从而增加了整体的实用性。

附图说明

图1为本实用新型立体结构示意图；