[实用新型]可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠有效

专利信息
申请号: 201922020191.9 申请日: 2019-11-20
公开(公告)号: CN210866233U 公开(公告)日: 2020-06-26
发明(设计)人: 杨进;熊林权;林木荣;石红丽 申请(专利权)人: 中山市木林森电子有限公司
主分类号: H01L33/48 分类号: H01L33/48;H01L33/60
代理公司: 中山市捷凯专利商标代理事务所(特殊普通合伙) 44327 代理人: 杨连华
地址: 528400 广东省中山市小榄镇木林森大道1号1-10幢/11幢*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 可抗磁 干扰 减少 光斑 黑心 led 灯珠
【说明书】:

本申请公开了可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠,包括LED支架和设于所述LED支架上的反光杯,所述LED支架的制作材料为铝材,所述反光杯内由下往上依次设有向外张开的第一锥面和第二锥面。本申请可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠通过由铝材制作的所述LED支架则可大幅度提升抗磁干扰功能,且通过所述反光杯内由下往上依次所设有向外张开的第一锥面和第二锥面,则可使所述发光杯形成为双段反光杯,继而有利于实现减少光斑黑心的问题,从而有利于使现有LED灯珠既具有高抗磁干扰功能,又具有少光斑黑心的突出效果,进而可最大限度满足实际应用需求。

【技术领域】

本申请涉及LED的技术领域,具体来说是涉及一种可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠。

【背景技术】

纵观LED照明技术发展历程,从1907年人类首次发现半导体材料碳化硅的电致发光现象,到目前已经过百年发展,相比于传统白炽灯及荧光灯发光设备,LED因其节能、环保、长寿命等优势异常突出而受到广泛重视,世界各国都争相制订出台适合自身发展状况的LED 发展计划,而中国虽然相对起步较晚但后来居上,目前世界LED生产及技术创新能力已主要集中在中国大陆及中国台湾、日本、韩国等地。

受前些年行业高速发展趋势吸引,一大批厂家陆续加入行业阵营争夺市场份额,近年来,产业整体规模在经历了连续30%以上的年增长率高水平发展之后已进入了普遍的放缓期,行业开始洗牌,竞争日趋激烈,企业开始加速优胜劣汰,一批缺乏技术优势及经验积累的小企业将会被逐渐淘汰出局。

经研究发现,现有LED灯珠不仅抗磁功能较差,且容易出现面域较大的光斑黑心,无疑是限制了LED灯珠的进一步发展和应用,为此,本领域技术人员亟需研发一种既可抗磁干扰又可减少光斑黑心的LED 灯珠来满足实际应用需求。

实用新型内容】

本申请所要解决是针对的上述现有的技术问题,提供一种可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠。

为解决上述技术问题,本申请是通过以下技术方案实现:

可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠,包括LED支架和设于所述LED支架上的反光杯,所述LED支架的制作材料为铝材,所述反光杯内由下往上依次设有向外张开的第一锥面和第二锥面。

如上所述的可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠,所述第一锥面向外张开角度大于所述第二锥面向外张开角度。

如上所述的可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠,所述第一锥面向外张开的角度范围为40~60°。

如上所述的可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠,所述第二锥面向外张开的角度范围为5~15°。

如上所述的可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠,所述可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠还包括设于所述反光杯内且与所述LED支架连接的LED芯片,所述LED芯片上侧面高度高于所述第一锥面下侧边缘高度。

如上所述的可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠,所述LED 支架上设有位于所述LED芯片下侧的功能区和设于所述功能区一侧的非功能区,以及还开设有位于所述功能区与所述非功能区间的间隔沟槽,所述间隔沟槽位于所述反光杯底部下侧;

所述可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠还包括:

间隔沟槽绝缘填充体,其设于所述间隔沟槽内,用于封装所述间隔沟槽;

第一连接导线,其一端与所述功能区连接,且其另一端与所述 LED芯片一侧连接;

第二连接导线,其一端与所述非功能区连接,且其另一端与所述 LED芯片另一侧连接。

如上所述的可抗磁干扰且可减少光斑黑心的LED灯珠,所述功能区上开设有功能区连接固紧孔,所述非功能区上开设有非功能区连接固紧孔;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中山市木林森电子有限公司,未经中山市木林森电子有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201922020191.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top