[实用新型]辅助阳极与溅镀设备

权利要求书

1.一种辅助阳极，其特征在于，包括：

背板，具有相对的内面与外面；

一对磁铁，以两列分别设置于所述背板的所述内面；

遮罩，设置于所述背板的所述内面，以遮蔽并包覆所述一对磁铁，其中所述遮罩具有朝厚度方向贯通的狭缝，且所述狭缝是对准所述一对磁铁的中央夹缝；

气体管路，自所述背板的所述外面穿过所述背板到所述内面，用以通入工艺气体；以及

冷却管路，配置于所述背板的所述内面，用以冷却所述一对磁铁。

2.根据权利要求1所述的辅助阳极，其特征在于，所述一对磁铁为具永久磁性的钕铁硼磁铁、铝镍钴磁铁或钐钴磁铁。

3.根据权利要求1所述的辅助阳极，其特征在于，所述一对磁铁的形状包括长方形、正方形、圆柱或多边形。

4.根据权利要求1所述的辅助阳极，其特征在于，所述一对磁铁两列互相平行对称，使所述中央夹缝具有固定距离，且N极与S极排列对称，以形成磁场。

5.根据权利要求1所述的辅助阳极，其特征在于，还包括绝缘垫圈，卡设于所述气体管路与所述背板之间。

6.根据权利要求1所述的辅助阳极，其特征在于，所述气体管路为一段管路至数段管路，且所述每段管路具有朝向受镀工件的至少一开口，使通入的所述工艺气体流通经过所述一对磁铁的所述中央夹缝中，而被离子化，并从所述狭缝流出所述遮罩。

7.根据权利要求1所述的辅助阳极，其特征在于，还包括绝缘垫圈，卡设于所述冷却管路与所述背板之间。

8.根据权利要求1所述的辅助阳极，其特征在于，所述冷却管路是绕行于所述一对磁铁与所述背板之间。

9.根据权利要求1所述的辅助阳极，其特征在于，所述冷却管路与所述一对磁铁直接接触。

10.根据权利要求1所述的辅助阳极，其特征在于，所述冷却管路包含气体、液体或热导管。

11.根据权利要求1所述的辅助阳极，其特征在于，还包括端子，自于所述背板的所述外面穿过所述背板连接至所述内面。

12.根据权利要求11所述的辅助阳极，其特征在于，还包括电源供应器，连至所述端子，以提供零电位或施加正电位。

13.根据权利要求11所述的辅助阳极，其特征在于，还包括绝缘垫圈，卡设于所述端子与所述背板之间。

14.一种溅镀设备，用以溅镀至少一受镀工件，其特征在于，所述溅镀设备包括：

多个阴极圆柱靶，设置于所述受镀工件的一侧；以及

至少一辅助阳极，设置于所述多个阴极圆柱靶之间，其中所述至少一辅助阳极是根据权利要求1～13中任一所述的辅助阳极。

15.根据权利要求14所述的溅镀设备，其特征在于，所述辅助阳极的数量为N个，所述多个阴极圆柱靶的数量为N+1个，N为大于等于1的整数。

16.根据权利要求14所述的溅镀设备，其特征在于，所述辅助阳极还设置于所述多个阴极圆柱靶的两侧，且所述多个阴极圆柱靶的数量为i个，所述辅助阳极的数量为i+1个，i为大于等于2的整数。

17.根据权利要求14所述的溅镀设备，其特征在于，设置于两个所述阴极圆柱靶之间的所述辅助阳极的数量为两个以上。

18.根据权利要求14所述的溅镀设备，其特征在于，所述辅助阳极与所述受镀工件之间的距离大于各所述阴极圆柱靶与所述受镀工件之间的距离。

19.根据权利要求14所述的溅镀设备，其特征在于，所述一对磁铁的N极与S极参考所述阴极圆柱靶的N极与S极排列对称，以产生闭环的磁力作用。