[实用新型]一种显影装置

说明书

本实用新型公开一种显影装置，包括显影管路和冲洗管路，显影管路和冲洗管路均连接喷洒管道，喷洒管道的两端封堵并且其至少一端设置有超声波装置，超声波装置包括超声波振动子，喷洒管道包括内壁和外壁，内壁和外壁之间设置有电热丝，喷洒管道上设置有朝下的电控喷头，电控喷头的下方设置有承片台，喷洒管道上还设置有与电控喷头相对应的温度传感器，超声波装置、电热丝、电控喷头、温度传感器均连接控制器，控制器连接有电源。喷出的去离子水中具有声波能量，能够更有效的清洁晶圆表面杂质，保证了显影液的温度不偏离预设温度，从而保证了显影均匀性。

技术领域

本实用新型涉及站岗装置技术领域，具体来说，涉及一种显影装置。

背景技术

在晶圆上制作集成电路的过程中，显影是光刻工艺中将曝光后的光刻胶图案化去除的步骤，其动作顺序为喷淋显影液、去离子水冲洗以及甩干三个过程。由于显影液的反应过程是酸碱中和反应，因此当在晶圆上用去离子水清洗时，晶圆中心点的强碱性骤降，酸碱中和反应发生逆反应，从而导致不溶物质析出回粘到晶圆上的问题产生。特别是在晶圆上连接孔的制程工艺中，当不溶物质析出后使连接孔被残留物遮挡住，会导致晶圆后续蚀刻制程失效，蚀刻后的连接孔图形丢失或不完整，使得晶圆产品的良率降低。

针对相关技术中的问题，目前尚未提出有效的解决方案。

实用新型内容

针对相关技术中的上述技术问题，本实用新型提出一种显影装置，喷出的去离子水中具有声波能量，能够更有效的清洁晶圆表面杂质。

为实现上述技术目的，本实用新型的技术方案是这样实现的：

一种显影装置，包括显影管路和冲洗管路，所述显影管路和冲洗管路均连接喷洒管道，所述喷洒管道的两端封堵并且其至少一端设置有超声波装置，所述超声波装置包括超声波振动子，所述喷洒管道包括内壁和外壁，所述内壁和所述外壁之间设置有电热丝，所述喷洒管道上设置有朝下的电控喷头，所述电控喷头的下方设置有承片台，所述喷洒管道上还设置有与所述电控喷头相对应的温度传感器，所述超声波装置、所述电热丝、所述电控喷头、所述温度传感器均连接控制器，所述控制器连接有电源。

进一步地，所述内壁和所述外壁之间填充有保温棉。

进一步地，所述承片台上可拆卸地设置有掩模，所述掩模的顶部开设显影液分散槽，所述显影液分散槽内均布有若干分布孔，所述分布孔贯穿所述掩模。

进一步地，所述分布孔的形状为六边形。

本实用新型的有益效果：喷出的去离子水中具有声波能量，能够更有效的清洁晶圆表面杂质，同时去离子水不会在晶圆中心出现酸碱中逆反应现象，缩短了晶圆在清洗液中的浸蚀时间，防止不溶物质的生成，从而保证显影图案的质量，同时保证了显影液的温度不偏离预设温度，从而保证了显影均匀性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1是根据本实用新型实施例所述的显影装置的示意图；

图2是根据本实用新型实施例所述的喷洒管道的示意图；

图3是根据本实用新型实施例所述的掩模的示意图。

图中：

1、显影管路；2、冲洗管路；3、喷洒管道；4、超声波装置；5、内壁；6、外壁；7、电热丝；8、电控喷头；9、承片台；10、温度传感器；11、掩模；12、显影液分散槽；13、分布孔。

具体实施方式