[实用新型]一种环形工件的抛光装置有效
申请号: | 201921642022.2 | 申请日: | 2019-09-29 |
公开(公告)号: | CN210879047U | 公开(公告)日: | 2020-06-30 |
发明(设计)人: | 熊翼;姚依鑫;孙黄玲 | 申请(专利权)人: | 芜湖翼诺机械有限公司 |
主分类号: | B24B19/11 | 分类号: | B24B19/11;B24B27/00;B24B41/06;B24B41/02;B24B41/00 |
代理公司: | 芜湖思诚知识产权代理有限公司 34138 | 代理人: | 张福敏 |
地址: | 241000 安徽省芜湖*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 环形 工件 抛光 装置 | ||
本实用新型公开了一种环形工件的抛光装置,涉及打磨装置领域,包括下架台,所述下架台的顶板下设有电机一,所述电机一的输出轴连接有定位盘,所述下架台上还设有上架台,所述上架台的立柱上均设有滑槽一,上架台的中下部设有支撑板,上架台的顶部下设有气缸,所述支撑板通过滑槽一与上架台滑动连接,所述支撑板上设有两个抛光装置,所述气缸的伸缩杆顶部与支撑板固定连接。本实用新型利用一对抛光装置可同时对环形工件的内外壁同时进行打磨,且打磨程度一致,工件表面圆弧完整连续,无过度抛光导致的不平整。两个抛光装置的相对位置可调,可适应不同厚度工件的内外壁打磨。
技术领域
本实用新型涉及打磨装置领域,具体涉及一种环形工件的抛光装置。
背景技术
环形工件在进行抛光时,现有抛光装置无法对内壁和外壁同时进行抛光,需要进行两次抛光操作,效率低下,费时费力,且分别对内壁和外壁进行抛光时无法保证抛光程度一致,无法实现标准化操作,且抛光程度不同容易造成使用过程中内外壁的磨损程度不同,使工件出现过早报废的现象。人工打磨过程中还可能破坏环形工件的弧度完整性,使工件的表面无法形成完整的圆形,增加废品率。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种环形工件的抛光装置,克服目前环形工件无法内外侧同时抛光及抛光面不标准的缺陷。
一种环形工件的抛光装置,包括下架台,所述下架台的顶板下设有电机一,所述电机一的输出轴连接有定位盘,所述下架台上还设有上架台,所述上架台的立柱上均设有滑槽一,上架台的中下部设有支撑板,上架台的顶部下设有气缸,所述支撑板通过滑槽一与上架台滑动连接,所述支撑板上设有两个抛光装置,所述气缸的伸缩杆顶部与支撑板固定连接。
优选地,所述支撑板上设有方形孔,两个抛光装置均穿过方形孔并与支撑板滑动连接。
优选地,所述抛光装置包括滑块、打磨电机和打磨棒,所述滑块两侧分别设有上凸块和下凸块,滑块通过下凸块与方形孔的侧壁滑动连接,所述上凸块上设有限位螺钉,所述打磨电机设于滑块上,所述打磨电机的输出轴顶端穿过滑块与打磨棒上端连接。
优选地,所述定位盘的顶端上有若干定位孔,底端上设有清扫孔。
优选地,所述下架台的底部设有缓震垫。
本实用新型的优点在于:利用一对抛光装置可同时对环形工件的内外壁同时进行打磨,且打磨程度一致,工件表面圆弧完整连续,无过度抛光导致的不平整。两个抛光装置的相对位置可调,可适应不同厚度工件的内外壁打磨。
附图说明
图1~3为本实用新型的整体结构示意图。
图4为抛光装置的结构示意图。
图5为定位盘的结构示意图。
其中,1-下架台,2-上架台,21-滑槽一,3-电机一,4-定位盘,41-定位孔,42-清扫孔,5-支撑板,6-抛光装置,61-限位螺钉,62-打磨电机,63-滑块,64-上凸块,65-下凸块,66-打磨棒,7-气缸,8-方形孔,9-缓震垫。
具体实施方式
为使本实用新型实现的技术手段、创作特征、达成目的与功效易于明白了解,下面结合具体实施方式,进一步阐述本实用新型。
如图1至图5所示,一种环形工件的抛光装置,包括下架台1,所述下架台1的顶板下设有电机一3,所述电机一3的输出轴连接有定位盘4,所述下架台1上还设有上架台2,所述上架台2的立柱上均设有滑槽一21,上架台2的中下部设有支撑板5,上架台2的顶部下设有气缸7,所述支撑板5通过滑槽一21与上架台2滑动连接,所述支撑板5上设有两个抛光装置6,所述气缸7的伸缩杆顶部与支撑板5固定连接。
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