[实用新型]成像薄膜及电子设备壳体有效

专利信息
申请号: 201921394204.2 申请日: 2019-08-26
公开(公告)号: CN210401717U 公开(公告)日: 2020-04-24
发明(设计)人: 刘立冬;宋忠阳;包卫英;游伟;江州 申请(专利权)人: 昇印光电(昆山)股份有限公司
主分类号: G02B3/00 分类号: G02B3/00;G02B30/27
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 王刚;龚敏
地址: 215316 江苏省苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 成像 薄膜 电子设备 壳体
【说明书】:

实用新型涉及光学薄膜技术领域,尤其涉及一种成像薄膜及电子设备壳体。所述成像薄膜包括本体,所述本体具有相背对的第一表面和第二表面,所述第一表面形成有聚焦层,所述第二表面形成有或所述本体嵌设有图文层,所述图文层包括多个微图文;所述微图文通过镀膜方式形成,且所述图文层与所述聚焦层相适配,以通过所述聚焦层形成影像。本实用新型提供的成像薄膜的图文层的微图文的反射率不小于5%,从而提高了成像薄膜的成像亮度,增加了用户体验。

技术领域

本实用新型涉及光学薄膜技术领域,尤其涉及一种成像薄膜及电子设备壳体。

背景技术

莫尔技术是一类引人注目的新型视觉安全技术。它利用微透镜阵列的聚焦作用将微图案高效率地放大,实现具有一定景深并呈现奇特动态效果的图案。

在实现本实用新型的过程中,实用新型人发现现有技术中至少存在如下问题:现有技术中的成像薄膜中的图文单元所形成的的像的亮度通常不够明亮,这会直接影响成像薄膜的成像效果和用户的体验。

因此,目前亟待需要一种成像薄膜及电子设备壳体来解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型提供了一种成像薄膜及电子设备壳体,以提高成像薄膜的成像亮度。

本实用新型提供了一种成像薄膜,包括本体,所述本体具有相背对的第一表面和第二表面,所述第一表面形成有聚焦层,所述第二表面形成有或所述本体嵌设有图文层,所述图文层包括多个微图文;

所述微图文通过镀膜方式形成,且所述图文层与所述聚焦层相适配,以通过所述聚焦层形成影像。

优选地,所述微图文通过镀膜方式形成。

优选地,所述微图文包括凹槽结构,所述凹槽结构填充有填充物,所述填充物通过镀膜方式填充于所述凹槽中。

优选地,所述微图文包括凸起结构,所述凸起结构通过镀膜方式形成。

优选地,所述镀膜方式包括化学式镀膜和/或物理式镀膜。优选地,所述微图文的表面设置有镀膜层。

优选地,所述微图文包括凹槽结构和/或凸起结构,所述凹槽结构的内表面和/或所述凸起结构的外表面设置有所述镀膜层。

优选地,所述凹槽结构填充有填充物,所述填充物的外表面设置有所述镀膜层。

优选地,所述镀膜层的成型方式包括化学式镀膜和/或物理式镀膜。

优选地,每个所述微图文存在渐变和/或多个所述微图文在所述图文层中的分布存在渐变。

优选地,每个所述微图文的所述镀膜层存在渐变和/或多个所述微图文的所述镀膜层在所述图文层中的分布存在渐变。

优选地,所述渐变的种类包括颜色的渐变、灰度的渐变、透过率的渐变、反射率的渐变和明暗的渐变中的一种或几种。

优选地,所述聚焦层具有多个聚焦单元,所述聚焦单元与所述微图文相适配。

优选地,所述聚焦单元为柱面镜、微透镜和菲涅尔透镜中的一种或几种。

优选地,相邻两个所述聚焦单元之间为无间隔设置或有间隔设置。

优选地,所述聚焦层和所述图文层分别采用一种或多种聚合物制成。

优选地,所述本体还包括间隔层,所述聚焦层和所述图文层分别设置于所述间隔层的两侧。

优选地,所述间隔层和所述聚焦层分别采用一种或多种聚合物制成,所述间隔层和所述图文层分别采用一种或多种聚合物制成。

一种电子设备壳体,包括基层和粘结于所述基层上的成像薄膜,所述成像薄膜为上述的成像薄膜;

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