[实用新型]一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具有效

专利信息
申请号: 201921170946.7 申请日: 2019-07-24
公开(公告)号: CN210789716U 公开(公告)日: 2020-06-19
发明(设计)人: 施正彪;郑国宝 申请(专利权)人: 精研(东莞)科技发展有限公司
主分类号: B23K26/70 分类号: B23K26/70;B23K37/04
代理公司: 北京科家知识产权代理事务所(普通合伙) 11427 代理人: 陈娟
地址: 523000 广东省东莞市长*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 用于 组合式 激光 正反 工艺 共用 镭雕治具
【说明书】:

实用新型公开了一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具,包括有呈矩形状的底座及对应匹配的上盖板,底座上端设置有若干个呈矩形状陈列的定位穴,且定位穴上端设置有定位柱,定位穴上端设置有底座避空槽,且底座避空槽贯穿底座,底座上端面边沿上装设有底座磁铁,底部磁铁对应匹配的盖板磁铁装设于上盖板的下端面上,上盖板上端设置有呈矩形状的且与定位穴位置对应匹配的盖板避空位。本实用新型具有计新颖、结构简单,无需重复拆卸定位,定位精准,效率高,可减少设备投入,节约设备与人力成本的优点。

技术领域

本实用新型涉及治具技术领域,尤其涉及一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具。

背景技术

随着智能手机的研发技术日益进步,手机内部各部件的制造成本下降,目前,根据最新的中国手机市场运行情况分析报告称,国内手机市场出货量为3737万部,其中国产手机出货量3423万部,上市机型120款,新机型的生命周期平均为3-6个月;手机通讯领域出货量、制造周期短的特点,给产业链配套的企业带来巨大的生产压力;如今如何用最低的成本产生最高的产能是每个产业链中公司第一需要考虑的问题;摄像头作为手机中不可或缺的组成部分,具有结构简单、易于量产化等特点,另外,需要激光镭雕导电位、镭雕字符产品多方位镭雕应用越来越频繁;但是目前的传统镭雕定位治具存在定位单一、只适合于但工艺镭雕,治具排位有限、激光扫射范围较小,容易镭雕偏位等问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于针对现有技术的不足而提供一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具,该共用镭雕治具设计新颖、结构简单,无需重复拆卸定位,定位精准,效率高,可减少设备投入,节约设备与人力成本。

为达到上述目的,本实用新型通过以下技术方案来实现。

一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具,包括有呈矩形状的底座及对应匹配的上盖板,底座上端设置有若干个呈矩形状陈列的定位穴,且定位穴上端设置有定位柱,定位穴上端设置有底座避空槽,且底座避空槽贯穿底座,底座上端面边沿上装设有底座磁铁,底部磁铁对应匹配的盖板磁铁装设于上盖板的下端面上,上盖板上端设置有呈矩形状的且与定位穴位置对应匹配的盖板避空位。

其中,所述底座四角上端设置有底座定位孔。

其中,所述上盖板四角上端设置有与所述底座定位孔对应匹配的盖板定位孔。

其中,所述底座及所述上盖板一对边的边沿上设置有手拿避空位。

其中,所述底座上端设置有九个呈矩形状陈列的定位穴。

本实用新型的有益效果为:本实用新型所述的一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具,包括有呈矩形状的底座及对应匹配的上盖板,底座上端设置有若干个呈矩形状陈列的定位穴,且定位穴上端设置有定位柱,定位穴上端设置有底座避空槽,且底座避空槽贯穿底座,底座上端面边沿上装设有底座磁铁,底部磁铁对应匹配的盖板磁铁装设于上盖板的下端面上,上盖板上端设置有呈矩形状的且与定位穴位置对应匹配的盖板避空位。本实用新型通过上盖板与底座相配合压紧摄像头产品,保证每次镭雕的精准性和稳定性;通过定位穴等距排列,一次性可镭雕9个产品,并且同步减少了机台调试的累计公差;通过底座避空槽及盖板避空槽的设计,使得无需重复拆卸定位即可镭雕加工产品的正反面;故本实用新型具有计新颖、结构简单,无需重复拆卸定位,定位精准,效率高,可减少设备投入,节约设备与人力成本的优点。

附图说明

下面利用附图来对本实用新型进行进一步的说明,但是附图中的实施例不构成对本实用新型的任何限制。

图1为本实用新型分解的结构示意图。

在图1中包括有:

1——底座 11——定位穴

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精研(东莞)科技发展有限公司,未经精研(东莞)科技发展有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201921170946.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top