[实用新型]一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具

权利要求书

1.一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，其特征在于：包括有呈矩形状的底座（1）及对应匹配的上盖板（2），底座（1）上端设置有若干个呈矩形状陈列的定位穴（11），且定位穴（11）上端设置有定位柱（12），定位穴（11）上端设置有底座避空槽（13），且底座避空槽（13）贯穿底座（1），底座（1）上端面边沿上装设有底座磁铁（14），底部磁铁（14）对应匹配的盖板磁铁（21）装设于上盖板（2）的下端面上，上盖板（2）上端设置有呈矩形状的且与定位穴（11）位置对应匹配的盖板避空位（22）。

2.根据权利要求1所述的一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，其特征在于：所述底座（1）四角上端设置有底座定位孔（15）。

3.根据权利要求2所述的一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，其特征在于：所述上盖板（2）四角上端设置有与所述底座定位孔（15）对应匹配的盖板定位孔（23）。

4.根据权利要求1所述的一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，其特征在于：所述底座（1）及所述上盖板（2）一对边的边沿上设置有手拿避空位（16）。

5.根据权利要求1所述的一种用于组合式激光正反镭雕工艺的共用镭雕治具，其特征在于：所述底座（1）上端设置有九个呈矩形状陈列的定位穴（11）。