[实用新型]用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置

权利要求书

1.一种用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于，包括圆柱状的高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块，所述高度调节螺丝和孔径调节器的圆周面分别加工有外螺纹，所述基座的两侧端面分别凹设有与所述高度调节螺丝和孔径调节器对应设置的第一螺纹孔和第二螺纹孔，所述孔径调节器背离所述基座的一端凹设有与垫块对应设置的通孔。

2.根据权利要求1所述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于：所述基座为外径为100mm，所述通孔的直径为40mm或30mm或10mm。

3.根据权利要求1所述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于：所述第一螺纹孔的螺纹间距小于0.2mm。

4.根据权利要求1所述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于：所述高度调节螺丝背离所述孔径调节器的一侧端面中心有一字通孔。

5.根据权利要求1所述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于：所述孔径调节器设有通孔的一侧端面至少凹设有两个方孔，所述方孔以所述通孔的中轴线为中心等间距阵列设置。

6.根据权利要求1所述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于：所述高度调节螺丝、基座、孔径调节器和垫块共轴设置。

7.根据权利要求1所述的用于纳米压痕仪检测的样品双面磨平装置，其特征在于：所述第二螺纹孔的底面和通孔的内壁的粗糙度优于Ra0.1mm，所述垫块的外表面的表面粗糙度优于Ra0.1mm。