[实用新型]一种修整头

说明书

本实用新型公开了一种修整头，包括修整组件和用于承载修整组件的基座组件，所述修整组件可相对于基座组件旋转并竖直移动以修整抛光垫；并且，所述修整头中设置有传感器以监测修整组件相对于基座组件的竖直位置。本申请提供的修整头用于化学机械抛光设备中抛光垫的修整活化，其结构合理，内部设置传感器实时监测修整组件相对于基座组件的竖直位置，实时获取修整组件底面距离抛光垫的距离，以保证良好的修整效果。

技术领域

本实用新型属于化学机械抛光技术领域，具体而言，涉及一种修整头。

背景技术

化学机械抛光是一种可接受的基板全局抛光的方法。这种抛光方法通常将基板吸合在承载头的下部，基板具有沉积层的一面抵接于旋转的抛光垫上，承载头在驱动部件的带动下与抛光垫同向旋转并给予基板向下的载荷；同时，抛光液供给于抛光垫的上表面并分布在基板与抛光垫之间，在化学及机械的综合作用下使基板完成全局抛光。

为了达到期望的抛光结果，抛光垫的表面必须定期修整，以移除累积在抛光垫上的抛光副产物，保证抛光垫具有良好的抛光特性。

修整盘设置于修整头下部，修整头下降并与旋转中的抛光表面接触，修整头在驱动装置作用下自转以与抛光垫相对旋转，同时，修整头在抛光垫的表面沿径向移动，以完成抛光垫的修整作业。修整盘在移动过程中，修整盘距离抛光垫的距离以及修整盘作用在抛光垫上的载荷都会影响修整盘的修整效果。

因此，亟需设计一种修整头，定期对抛光垫修整，以保证基板的抛光效果。

实用新型内容

本实用新型旨在至少一定程度上解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本实用新型公开了一种修整头，包括修整组件和用于承载修整组件的基座组件，所述修整组件可相对于基座组件旋转并竖直移动以修整抛光垫；并且，所述修整头中设置有传感器以监测修整组件相对于基座组件的竖直位置。

优选地，所述传感器为非接触式位置传感器。

优选地，所述修整组件的连接轴的上部具有定位环，并且所述传感器为固定连接至所述基座组件的磁性开关，所述磁性开关位于所述定位环圆周外侧以测量其竖直方向的移动。

优选地，所述传感器的数量至少两个，其设置于基座组件竖直方向的不同位置。

优选地，所述基座组件包括同心地套设于所述连接轴的外侧的承载盘，所述承载盘上具有至少两个用于设置所述传感器的凹槽。

优选地，所述凹槽沿承载盘的中轴线均匀对称分布。

优选地，所述基座组件包括基座、上旋转套及下旋转套，所述上旋转套与下旋转套连接为一体并同心设置于基座内，所述传感器设置在上旋转套与下旋转套之间的竖向空间内。

优选地，所述上旋转套及下旋转套为磁导率低的金属材料。

优选地，所述上旋转套及下旋转套为复合材料。

优选地，所述上旋转套及下旋转套为被玻璃填充的聚苯硫醚(PPS)或被玻璃填充的聚醚醚酮(PEEK)。

本申请公开的修整头，其有益效果：修整头的内部设置传感器，以实时监测修整组件相对于基座组件的竖直位置，定期对抛光垫修整，以保证基板的抛光效果。

附图说明

通过结合以下附图所作的详细描述，本实用新型的优点将变得更清楚和更容易理解，这些附图只是示意性的，并不限制本实用新型的保护范围，其中：

图1是根据本实用新型所述修整头一个实施例的结构示意图；

图2是根据本实用新型所述修整头另一实施例的结构示意图；

图3是本实用新型之承载盘的结构示意图；