[实用新型]一种ITO折射率匹配基材

说明书

本实用新型涉及一种ITO折射率匹配基材，所述基材包括由下至上依次设置的硬化层、第一折射率匹配层、基材层、第二折射率匹配层、以及第三折射率匹配层，所述第一折射率匹配层、第二折射率匹配层、以及第三折射率匹配层均分布有金属氧化物微粒，所述第一折射率匹配层、第二折射率匹配层、以及第三折射率匹配层的金属氧化物微粒的密度依次增加。本实用新型通过金属氧化物微粒的密度调整基材的整体折射率，实现与现有的ITO膜的折射率匹配，提高ITO膜的光学效果。

技术领域

本实用新型涉及光学膜领域，具体而言，涉及一种ITO折射率匹配基材。

背景技术

ITO导电膜是指采用磁控溅射的方法，在透明有机薄膜材料上溅射透明氧化铟锡(ITO)导电薄膜镀层并经高温退火处理得到的高技术产品；导电膜分为ITO导电玻璃、ITO导电膜及非ITO导电膜三大类；其中，非ITO导电膜属于柔性显示中的新兴行业，市场前景良好。

在 PET 基材表面通过不同的镀膜方式镀制 ITO 层即为 ITO FILM，用于触摸屏的探测电极时，ITO 层在生产过程中需要蚀刻不同图案，如菱形图案，菱形图案外侧区域需要用酸性溶液将 ITO 蚀刻掉，因此蚀刻图形不能被肉眼识别是作为 ITO FILM 生产的一项重要性能，然而由于 ITO 折射率在 2.1 左右，普通 PET 硬化层折射率在 1.52 左右，二者折射率差较大，致使蚀刻图形会能被肉眼所识别。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种ITO折射率匹配基材，可与现有的ITO膜的折射率匹配，提高ITO膜的光学效果。

一种ITO折射率匹配基材，所述基材包括由下至上依次设置的硬化层、第一折射率匹配层、基材层、第二折射率匹配层、以及第三折射率匹配层，所述第一折射率匹配层、第二折射率匹配层、以及第三折射率匹配层均分布有金属氧化物微粒，所述第一折射率匹配层、第二折射率匹配层、以及第三折射率匹配层的金属氧化物微粒的密度依次增加。

进一步的，所述金属氧化物微粒为二氧化锆、三氧化二铝、氧化锌和氧化锑中的一种或多种。

进一步的，所述第一折射率匹配层的折射率范围为1.4-1.5。

进一步的，所述第二折射率匹配层的折射率范围为1.5-1.6。

进一步的，所述第三折射率匹配层的折射率范围为1.7-1.75。

进一步的，所述硬化层的折射率范围为1.5-1.6。

进一步的，所述基材层为PET材料层。

进一步的，所述硬化层为亚克力层。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：在第一折射率匹配层、第二折射率匹配层、以及第三折射率匹配层内设置金属氧化物微粒，通过调整金属氧化物的密度来调整各匹配层的折射率，在保证产品性能的同时，降低折射率调整的难度和成本。第一折射率匹配层、第二折射率匹配层、以及第三折射率匹配层的金属氧化物微粒的密度依次增大，使ITO 区域与基材区域的折射率差值变小，达到蚀刻图形不会被肉眼识别的目的。

附图说明

图1为本实用新型的ITO折射率匹配基材的结构示意图。

具体实施方式

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关附图对本实用新型进行更全面的描述。附图中给出了本实用新型的较佳实施方式。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施方式。

如图1所示，一较佳实施例中，本实用新型的ITO折射率匹配基材主要包括由下至上依次设置的硬化层1、第一折射率匹配层2、基材层3、第二折射率匹配层4、以及第三折射率匹配层5。其中，硬化层1采用亚克力材料制成，用于提高基材的柔韧度，基材层3采用PET材料。