[实用新型]一种测试滚轮轴偏心度的装置有效
申请号: | 201920869109.7 | 申请日: | 2019-06-11 |
公开(公告)号: | CN210533329U | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
发明(设计)人: | 贾艳飞 | 申请(专利权)人: | 山西机电职业技术学院 |
主分类号: | G01B21/24 | 分类号: | G01B21/24 |
代理公司: | 太原市科瑞达专利代理有限公司 14101 | 代理人: | 李富元 |
地址: | 046000 *** | 国省代码: | 山西;14 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 测试 轮轴 偏心 装置 | ||
本实用新型涉及一种滚轴偏心度测量装置。一种测试滚轮轴偏心度的装置,包括底座(14)、安装在底座(14)左端的竖直的固定支撑架(1)、安装在底座(14)右端的竖直的挡板(13)、一端固定在固定支撑架(1)另一端固定在挡板(13)上的两根平行且处于同一水平位的导轨(10)、通过下部滑槽(8)安装在导轨(10)上的移动支撑架(7)、固定在固定支撑架(1)下部的两个平行同向布置且处于同一水平位的两个第一电机(2),通过调整移动支架将待测滚轮轴安装在两个第二轴承上,通过第二电机转动待测滚轮轴,待测滚轮轴的偏心度即可通过压力传感器感受到的压力的大小来表示出来,通过控制电脑即可获得待测滚轮轴的偏心度。
技术领域
本实用新型涉及一种滚轴偏心度测量装置。
背景技术
单晶电池片生产的工艺流程为:制绒-扩散-湿法刻蚀-退火-PE-丝网印刷-烧结-分选-测试,湿法刻蚀是使用HF/HNO3,除去硅片背面和侧面的磷硅区域,以免发生短路,但是在刻蚀目的过程中经常容易发生过刻的情况,即将硅片正面的P_N结刻蚀除去,造成电池片效率降低,外观不良等。
目前湿法刻蚀主要有两种技术,一种是“水上漂”技术,另一种是“滚轮带液”技术,由于水上漂技术中使用硫酸,硫酸的密度较大,可以使硅片在溶液上面漂浮,但是硫酸的污染较大,现在正在逐步减少;滚轮带液的技术,是滚轮半浸在液体中,硅片在滚轮轴上,不直接接触液体,正面用水膜保护,以免被液体刻蚀,背面利用滚轮转动起来带起来的液体,刻蚀硅片的侧面和背面,以达到除去背面的磷硅区域。刻蚀过程中对滚轴偏心度要求比较高,在实际生产的过程中,经常会发生由于滚轮轴发生形变,滚轮高度不一致,导致硅片发生抖动,将水膜破坏,从而发生硅片上表面被刻蚀,即过刻。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是:如何提供一种滚轴偏心度测量装置。
本实用新型所采用的技术方案是:一种测试滚轮轴偏心度的装置,包括底座(14)、安装在底座(14)左端的竖直的固定支撑架(1)、安装在底座(14)右端的竖直的挡板(13)、一端固定在固定支撑架(1)另一端固定在挡板(13)上的两根平行且处于同一水平位的导轨(10)、通过下部滑槽(8)安装在导轨(10)上的移动支撑架(7)、固定在固定支撑架(1)下部的两个平行同向布置且处于同一水平位的两个第一电机(2)、一端安装在第一电机(2)的输出轴上另一端通过第一轴承(12)安装在挡板(13)上的两根平行且处于同一水平位置的螺纹杆(11)、通过下部的螺纹槽(4)安装在两根螺纹杆(11)上的支架(5)、安装在支架(5)上的压力传感器(6)、一个镶嵌在固定支撑架(1)和一个镶嵌在移动支撑架(7)上的两个第二轴承(9)、控制电脑、安装在固定支撑架(1)上的第二电机(18),两个第二轴承(9)的轴线在一条直线上,待测试滚轮轴(3)的两端分别安装在一个第二轴承(9)上,控制电脑电信号连接压力传感器(6),第二电机(18)与安装在固定支撑架(1)上的第二轴承(9)的内圈固定连接。
作为一种优选方式:支架(5)为一个倒U形结构,支架(5)的两条腿下部各有一个螺纹槽(4),螺纹槽(4)是一个带螺纹的通孔,支架(5)的顶部的内部中央有一根圆柱状的导引柱(16),导引柱(16)上套有一个弹簧(15),弹簧(15)被一个圆筒(17)套着,弹簧(15)的上部固定连接在支架(5)上,弹簧(15)的下部固定连接在圆筒(17)的内部的底部,圆筒(17)的外侧的底部上安装有压力传感器(6),压力传感器(6)的触头顶部为光滑面,该光滑面与测试滚轮轴(3)的表面接触。
本实用新型的有益效果是:通过调整移动支架将待测滚轮轴安装在两个第二轴承上(第二轴承的外圈固定在移动支架或者固定支架上,内圈固定在待测滚轮轴上),通过第二电机转动待测滚轮轴,待测滚轮轴的偏心度即可通过压力传感器感受到的压力的大小来表示出来,通过控制电脑即可获得待测滚轮轴的偏心度。
附图说明
图1是本实用新型的俯视图示意图;
图2是本实用新型的主视图示意图;
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