[实用新型]一种五磁道磁钢组件及磁控溅射镀膜设备

说明书

本实用新型公开了一种五磁道磁钢组件及磁控溅射镀膜设备，属于镀膜设备领域。该磁钢组件包括磁轭和固定管，所述的磁轭和固定管之间连接有用于调节磁轭与固定管间距的调节组件，所述的磁轭上依次设有第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、第四磁铁和第五磁铁，所述的第一磁铁、第三磁铁与第五磁铁的同一侧磁极相同，所述的第二磁铁与第四磁铁的同一侧磁极相同，所述的第三磁铁与第二磁铁的同一侧磁极相反。本实用新型将上述磁钢组件应用在磁控溅射镀膜设备中，可以在真空磁控溅射过程中，使靶材所产生的等离子体区间变宽，以及使靶材所产生的等离子体的动能变强，从而可以使等离子体的沉积速率加快，满足高沉积效率的要求，以达到提高镀膜效率的目的。

技术领域

本实用新型涉及镀膜设备领域，具体涉及一种五磁道磁钢组件及磁控溅射镀膜设备。

背景技术

磁控溅射镀膜设备，可以广泛地应用于低辐射(Low Emissivity，LOW-E)玻璃镀膜线、氧化铟锡(Indium Tin Oxide，ITO)镀膜线、太阳能镀膜线等。磁控溅射的原理是：利用磁场来改变电子的运动方向，束缚和延长电子的运动轨迹，从而提高电子对工作气体电离的能力，使正离子对靶材的轰击更加有效，以提高沉积速率。所以，对于磁控溅射镀膜设备而言，磁钢是一个重要、不可缺少的组件。

对此，申请人在之前公开了一种磁钢装置(申请号为201320793161.1)，其虽然通过设置调节螺栓和锁紧螺母可以调节固定管和细长条磁铁本体的间距，以满足不同镀膜膜厚的要求；但是，由于该装置的细长条磁铁本体只有三磁道(中间为N极部，两边为S极部)，故该磁钢形成磁力线闭合环形区间比较窄，导致在真空磁控溅射过程中，靶材所产生的等离子体密度低下，无法满足高沉积效率的要求，从而影响了磁控溅射镀膜设备的镀膜效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种五磁道磁钢组件及磁控溅射镀膜设备，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型实施例提供如下技术方案：

一种五磁道磁钢组件，包括磁轭和固定管，所述的磁轭和固定管之间连接有用于调节磁轭与固定管间距的调节组件，所述的磁轭上依次设有第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、第四磁铁和第五磁铁，所述的第一磁铁、第三磁铁与第五磁铁的同一侧磁极相同，所述的第二磁铁与第四磁铁的同一侧磁极相同，所述的第三磁铁与第二磁铁的同一侧磁极相反。

本实用新型实施例采用的一种优选方案，所述的调节组件包括若干组调节螺钉，所述的磁轭上设有若干组与调节螺钉相匹配的螺纹孔，所述的调节螺钉穿过固定管与螺纹孔进行螺纹连接；所述的调节螺钉上还螺纹连接有锁紧螺母。

本实用新型实施例采用的另一种优选方案，所述的第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、第四磁铁和第五磁铁均为条形结构。

本实用新型实施例采用的另一种优选方案，所述的第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、第四磁铁和第五磁铁外均包裹有具有防腐功能的导磁体。

本实用新型实施例采用的另一种优选方案，所述的导磁体为不锈钢材质。

本实用新型实施例还提供一种包括上述五磁道磁钢组件的磁控溅射镀膜设备。

本实用新型实施例的提供的上述技术方案，相比于现有技术，具有以下技术效果：

(1)本实用新型实施例通过在磁轭上依次设置第一磁铁、第二磁铁、第三磁铁、第四磁铁和第五磁铁，以及通过将第一磁铁、第三磁铁和第五磁铁的同一侧磁极设置为同名，将第二磁铁与第三磁铁的同一侧磁极设置为异名，将第二磁铁与第四磁铁的同一侧磁极设置为同名，便可在磁轭周围形成两个的磁力线闭合环形区间，从而增大了磁力线范围。