[实用新型]铜片蚀刻清洗装置

说明书

本实用新型提出了一种铜片蚀刻清洗装置，包括操作箱，卷材式铜片由起始端通过若干导向传动辊和张紧辊配合，穿过操作箱，所述操作箱包括相互衔接的微蚀箱、初洗箱、浸泡箱、碱洗箱、酸洗箱和末端清洗箱，所述微蚀箱内设有针对铜片的激光蚀刻组件。本实用新型提供一种铜片蚀刻后清理的非常完整的技术方案，有效降低铜片蚀刻后的粉尘附着问题，提高产品的品质和生产效率。

技术领域

本发明涉及铜片蚀刻设备，尤其涉及一种铜片蚀刻清洗装置。

背景技术

现有技术中针对铜片的蚀刻装置比较多样，而在蚀刻后，很多粉尘容易附着在铜片表面，现有技术针对此种问题采用风吹的方式，但是在静电作用下，很多粉尘不容易被吹走，并且铜片表面也需要进行一些化学清洗，而现有技术中没有一款解决两种问题的同一系统装置。

发明内容

本发明提出一种铜片蚀刻清洗装置，解决了现有技术中的问题。

本发明的技术方案是这样实现的：

铜片蚀刻清洗装置，包括操作箱，卷材式铜片由起始端通过若干导向传动辊和张紧辊配合，穿过操作箱，所述操作箱包括相互衔接的微蚀箱、初洗箱、浸泡箱、碱洗箱、酸洗箱和末端清洗箱，所述微蚀箱内设有针对铜片的激光蚀刻组件。

作为本发明的优选方案，所述初洗箱内包括有若干喷淋嘴，所述喷淋嘴通过带有控制阀的进料管连接有冷却水进水管；所述初洗箱内设有排水口，所述排水口分别通过带有控制阀的出料管连接冷却水出水管和排污水管。

作为本发明的优选方案，所述浸泡箱内设有浸泡池，所述铜片在导向辊导向下经过所述浸泡池。

作为本发明的优选方案，所述浸泡池内安装有液体分析仪器和液位传感器，所述液体分析仪器和液位传感器与装置内控制部连接。

作为本发明的优选方案，所述浸泡池通过带有控制阀的进料管连接有药水进水管，所述浸泡池还通过带有控制阀的出料管连接有微蚀排药水管和排污水管。

作为本发明的优选方案，所述酸洗箱内设有若干酸液喷头，所述酸液喷头通过带有控制阀的进料管连接有酸洗进药管。

作为本发明的优选方案，所述酸洗箱通过带有控制阀的出料管连接有排污水管。

作为本发明的优选方案，所述碱洗箱内设有若干碱液喷头，所述碱液喷头通过带有控制阀的进料管连接有碱洗进药管。

作为本发明的优选方案，所述碱洗箱通过带有控制阀的出料管连接有排污水管。

作为本发明的优选方案，所述末端清洗箱内设有喷淋装置，所述喷淋装置通过带有控制阀的进料管连接有冷却水进水管，所述末端清洗箱通过带有控制阀的出料管连接有冷却水出水管。

有益效果

本发明提出了一种铜片蚀刻清洗装置，包括操作箱，卷材式铜片由起始端通过若干导向传动辊和张紧辊配合，穿过操作箱，所述操作箱包括相互衔接的微蚀箱、初洗箱、浸泡箱、碱洗箱、酸洗箱和末端清洗箱，所述微蚀箱内设有针对铜片的激光蚀刻组件。本发明提供一种铜片蚀刻后清理的非常完整的技术方案，有效降低铜片蚀刻后的粉尘附着问题，提高产品的品质和生产效率。

附图说明

为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本发明的结构示意图。

排污水管1，微蚀排药水管2，药水进水管3，冷却水出水管4，冷却水进水管5，酸洗进药管6，碱洗进药管7，微蚀箱8，初洗箱9，浸泡箱10，碱洗箱11，酸洗箱12，末端清洗箱13。