[实用新型]一种磁瓦外观缺陷检测结构有效

专利信息
申请号: 201920846277.4 申请日: 2019-06-05
公开(公告)号: CN210198992U 公开(公告)日: 2020-03-27
发明(设计)人: 汤培欢 申请(专利权)人: 深圳至汉装备科技有限公司
主分类号: G01N21/95 分类号: G01N21/95;G01N21/88
代理公司: 北京国坤专利代理事务所(普通合伙) 11491 代理人: 赵红霞
地址: 518000 广东省深圳市南山区西丽街道*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 外观 缺陷 检测 结构
【权利要求书】:

1.一种磁瓦外观缺陷检测结构,包括用于拍摄磁瓦图像的相机,其特征在于,在所述相机与待检测的磁瓦之间布置有同轴的直射灯和漫射灯,所述直射灯包括由垂直于所述相机的光轴方向入射的平行光源,以及将平行光源发出的光反射为与所述相机的光轴平行且重合的反射镜;所述漫射灯包括上下两端分别开口的弧形罩,安装在所述弧形罩底部且向所述弧形罩内壁方向照射的环形光源。

2.根据权利要求1所述的磁瓦外观缺陷检测结构,其特征在于,

所述直射灯还包括矩形壳体,所述矩形壳体的相对两端分别开有供相机取景用的拍摄孔和出光孔,所述平行光源安装在所述拍摄孔和所述出光孔之间的侧壁处,所述反射镜的一端位于所述出光孔远离所述平行光源的一侧,相对的另一端向所述平行光源方向倾斜且越过所述拍摄孔。

3.根据权利要求2所述的磁瓦外观缺陷检测结构,其特征在于,

所述平行光源与所述反射镜之间设置有垂直于所述相机的光轴且具备聚光效果的光学透镜。

4.根据权利要求2所述的磁瓦外观缺陷检测结构,其特征在于,

所述弧形罩的顶部开口与所述矩形壳体的出光孔连接,所述弧形罩的底部相对的位置处设置有供所述磁瓦进入和离开的凹口。

5.根据权利要求1所述的磁瓦外观缺陷检测结构,其特征在于,

所述弧形罩的底部安装有向中心线方向延伸的环形槽,所述环形光源安装在所述环形槽内。

6.根据权利要求5所述的磁瓦外观缺陷检测结构,其特征在于,

在所述环形槽的底部安装有对所述环形光源进行散热的导热层。

7.根据权利要求2所述的磁瓦外观缺陷检测结构,其特征在于,

所述矩形壳体与所述弧形罩通过中间带有孔洞的连接件连接。

8.根据权利要求7所述的磁瓦外观缺陷检测结构,其特征在于,

所述连接件包括矩形且中心带有孔洞的固定板,在所述孔洞的相对两侧边分别设置有向同一侧垂直伸出的调节板,在所述固定板上与所述调节板相对的一侧安装有两块相对布置的L形吊装板,两块所述L形吊装板的折边相对且相对的折边围成一个圆形空心。

9.根据权利要求8所述的磁瓦外观缺陷检测结构,其特征在于,

还包括固定所述相机和所述连接件的矩形框架,所述相机通过相机架吊装在所述矩形框架的上部,所述连接件通过固定板的四周侧边与所述矩形框架连接。

10.根据权利要求9所述的磁瓦外观缺陷检测结构,其特征在于,

所述相机架包括一块矩形且中心带有取景孔的搭接板,在所述取景孔的相对两侧垂直固定有具备调节槽的固定块,在两块所述固定块之间通过调节槽安装有固定相机的吊框。

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