[实用新型]一种基于半导体基片加工的反应腔内托盘

说明书

本实用新型提供一种基于半导体基片加工的反应腔内托盘，包括防滑块，固定件，固定槽，缓冲块，限位板，受力块，压块，拉板，移动块，卡块和控制板；所述主体为矩形板状结构，该主体的两侧底部设有凸块，再者，凸块的底部内部通过连接轴安装有移动轮，并且，拉槽的内部底端为弧形结构；所述限位孔通过均匀排列的方式设在安装槽的两侧，此处的内块是用来安装在安装仓的内部的，使得弹簧可以通过内块将顶块向上顶动，使得基片在插入到安装槽内部的时候，顶块可以向上顶起，从而将基片进行辅助固定，而顶块的侧边为倾斜状结构，是为了使得基片在初步插入的时候进行导向的，使得内块以及顶块可以受力内缩。

技术领域

本实用新型属于托盘结构技术领域，更具体地说，特别涉及一种基于半导体基片加工的反应腔内托盘。

背景技术

反应腔内部托盘是用来将半导体基片进行固定的，从而带动半导体基片到反应腔内部进行进一步的加工。

例如申请号：CN201210423901.2中涉及一种半导体加工设备，包括室体，所述室体内具有反应腔；第一托盘，所述第一托盘设于所述反应腔内，所述第一托盘上设有承载晶片的片槽；电感线圈，所述电感线圈环绕在所述室体的外周，用于加热所述第一托盘，所述第一托盘由多个子托盘构成，所述子托盘之间存在物理间隙。根据本发明的半导体加工设备，通过将第一托盘分成多个子托盘，可有效降低集肤效应对第一托盘的影响，提高了第一托盘温度分布的均匀性，降低第一托盘径向的温度分布梯度，进而使位于片槽内的基片升温更加均匀，提高了半导体加工设备工艺效果。

基于现有技术中的设备发现，现有的反应腔内托盘在使用的时候，将基片夹紧进行辅助固定的结构不够完善，不便于在基片插入之后进行辅助固定，且现有的反应腔内托盘在使用的时候，将基片带动固定与托盘连接的结构不够完善，不便于将基片固定之后与托盘固定连接。

于是，有鉴于此，针对现有的结构及缺失予以研究改良，提供一种基于半导体基片加工的反应腔内托盘，以期达到更具有更加实用价值性的目的。

实用新型内容

为了解决上述技术问题，本实用新型提供一种基于半导体基片加工的反应腔内托盘，以解决现有的反应腔内托盘在使用的时候，将基片夹紧进行辅助固定的结构不够完善，不便于在基片插入之后进行辅助固定，且现有的反应腔内托盘在使用的时候，将基片带动固定与托盘连接的结构不够完善，不便于将基片固定之后与托盘固定连接的问题。

本实用新型基于半导体基片加工的反应腔内托盘的目的与功效，由以下具体技术手段所达成：

一种基于半导体基片加工的反应腔内托盘，包括主体，拉槽，安装槽，限位孔，安装仓，内块，顶块，防滑块，固定件，固定槽，缓冲块，限位板，受力块，压块，拉板，移动块，卡块和控制板；所述主体为矩形板状结构，该主体的两侧底部设有凸块，再者，凸块的底部内部通过连接轴安装有移动轮，并且，拉槽的内部底端为弧形结构；所述限位孔通过均匀排列的方式设在安装槽的两侧，还有的是，安装仓通过均匀排列的方式设在安装槽的两侧底端内部；所述内块嵌入安装在安装仓的内部，且内块的底部通过弹簧与安装仓内部底端相连接，并且防滑块为橡胶材质；所述固定件安装在安装槽的内部，且固定槽的内部插入安装有半导体基片；所述限位板安装在固定件的顶端内部中间位置，且限位板的两侧通过弹簧与固定件的内部相连接，并且压块的顶端设有拉块；所述拉板的底部通过固定连接的方式与固定件的顶端侧边相连接，且移动块的上方设有矩形结构的控制板，并且控制板处于拉板的顶端。

进一步的，所述主体的上方右端设有矩形结构的拉槽，且主体的上方设有数个均匀排列的安装槽，且安装槽为T形结构，并且安装槽的两侧顶端为倾斜状结构。

进一步的，所述限位孔为矩形结构，且限位孔的外端侧边为倾斜状结构，并且安装仓为矩形结构。

进一步的，所述内块为矩形结构，且内块的顶端设有顶块，且顶块的侧边为倾斜状结构，并且顶块的顶端通过粘接的方式安装有防滑块。