[实用新型]一种磁控溅射用的绝缘块及磁控溅射设备有效
申请号: | 201920734946.9 | 申请日: | 2019-05-20 |
公开(公告)号: | CN210193987U | 公开(公告)日: | 2020-03-27 |
发明(设计)人: | 齐士新 | 申请(专利权)人: | 天津南玻节能玻璃有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C03C17/00 |
代理公司: | 天津企兴智财知识产权代理有限公司 12226 | 代理人: | 韩敏 |
地址: | 301700 天津市武清*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 磁控溅射 绝缘 设备 | ||
本实用新型提供了一种磁控溅射用的绝缘块及磁控溅射设备,包括同轴心设置的上垫块和下垫块,上垫块的底面和下垫块顶面分别设置同轴心的上支撑柱和下支撑柱,上支撑柱和下支撑柱可拆卸的固定在一起,在上支撑柱外侧的上垫块底面上同轴心的设置若干条上绝缘环,在下支撑柱外侧的下垫块顶面上同轴心的设置若干条下绝缘环,上垫块固定到下垫块时,上绝缘环和下绝缘环依次交替排列,上绝缘环和下绝缘环的端部交叠设置。本实用新型所述的上绝缘环和下绝缘环依次交替排布,形成了迷宫式密封结构,从而保证上垫块和下垫块的绝缘效果。
技术领域
本实用新型属于磁控溅射技术领域,尤其是涉及一种磁控溅射用的绝缘块及磁控溅射设备。
背景技术
随着磁控溅射镀膜法在生产中的应用越来越广泛,提高生产效率、简化生产过程,显得越来越重要,在底板上能够同时安装多个基底是提高效率、减少结果偶然性偏差的一种有效方式,此外,简化基片的安装过程,提高基片的牢固度等也是提高镀膜成功率的关键。
目前为了避免生产镀膜玻璃过程中出现放电,需要底板与腔室之间保持绝缘,通常在底板与腔室之间设置一个一体结构的绝缘块以保持两者之间的绝缘效果,然而,由于受腔室内部溅射物的影响,底板下部的绝缘块使用一段时间后,溅射物逐渐积累在绝缘块的外壁,绝缘块的绝缘效果失效,那么需要设计一种绝缘效果佳的绝缘块。
发明内容
有鉴于此,本实用新型旨在提出一种磁控溅射用的绝缘块及磁控溅射设备,以解决上述技术问题。
为达到上述目的,本实用新型的技术方案是这样实现的:
一种磁控溅射用的绝缘块,包括同轴心设置的上垫块和下垫块,上垫块的底面和下垫块顶面分别设置同轴心的上支撑柱和下支撑柱,上支撑柱和下支撑柱可拆卸的固定在一起,在上支撑柱外侧的上垫块底面上同轴心的设置若干条上绝缘环,在下支撑柱外侧的下垫块顶面上同轴心的设置若干条下绝缘环,上垫块固定到下垫块时,上绝缘环和下绝缘环依次交替排列,上绝缘环和下绝缘环的端部交叠设置。
进一步的,上绝缘环和下绝缘环的数量分别为2-4条。
进一步的,相邻的上绝缘环和下绝缘环之间的缝隙的宽度在2-3mm。
进一步的,相邻的上绝缘环和下绝缘环之间的缝隙的宽度为2mm。
进一步的,上支撑柱底面设置凸起,下支撑柱顶面设置容纳凸起的凹槽,凸起和凹槽通过过盈配合将上支撑柱和下支撑柱固定在一起。
进一步的,上绝缘环和下绝缘环的竖直高度相同,上绝缘环的竖直高度占上垫块底面到下垫块顶面的距离的3/4-4/5。
进一步的,上垫块、上支撑柱和上绝缘环一体成型,下垫块、下支撑柱和下绝缘环一体成型。
进一步的,上垫块和下垫块均采用赛钢材料制成。
一种磁控溅射设备,包括上述的绝缘块,下垫块固定在腔体底面,上垫块可拆卸的固定在下垫块上,底板设置在上垫块上。
相对于现有技术,本实用新型所述的一种磁控溅射用的绝缘块及磁控溅射设备具有以下优势:
(1)本实用新型所述的绝缘块结构简单,能够大大降低后期设备维护成本,上绝缘环和下绝缘环依次交替排布,形成了迷宫式密封结构,从而保证上垫块和下垫块的绝缘效果,上垫块和下垫块可拆卸,操作简便,大大节约了维护、维修的时间,绝缘块的设计更人性化,易于在市面上广泛推广。
(2)本实用新型所述的磁控溅射设备,通过在底板和腔体之间设置绝缘块,能够起到良好的绝缘效果,同时大大降低设备维护成本。
附图说明
构成本实用新型的一部分的附图用来提供对本实用新型的进一步理解,本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中:
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