[实用新型]一种磁控溅射用的绝缘块及磁控溅射设备有效
| 申请号： | 201920734946.9 | 申请日： | 2019-05-20 |
| 公开（公告）号： | CN210193987U | 公开（公告）日： | 2020-03-27 |
| 发明（设计）人： | 齐士新 | 申请（专利权）人： | 天津南玻节能玻璃有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C03C17/00 |
| 代理公司： | 天津企兴智财知识产权代理有限公司 12226 | 代理人： | 韩敏 |
| 地址： | 301700 天津市武清*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 磁控溅射 绝缘 设备 | ||
1.一种磁控溅射用的绝缘块，其特征在于：包括同轴心设置的上垫块(1)和下垫块(2)，上垫块(1)底面和下垫块(2)顶面分别设置同轴心的上支撑柱(11)和下支撑柱(21)，上支撑柱(11)和下支撑柱(21)可拆卸的固定在一起，在上支撑柱(11)外侧的上垫块(1)底面上同轴心的设置若干条上绝缘环(12)，在下支撑柱(21)外侧的下垫块(2)顶面同轴心的设置若干条下绝缘环(22)，上垫块(1)固定到下垫块(2)时，上绝缘环(12)和下绝缘环(22)依次交替排列，上绝缘环(12)和下绝缘环(22)的端部交叠设置。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用的绝缘块，其特征在于：上绝缘环(12)和下绝缘环(22)的数量分别为2-4条。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用的绝缘块，其特征在于：相邻的上绝缘环(12)和下绝缘环(22)之间的缝隙的宽度在2-3mm。
4.根据权利要求3所述的一种磁控溅射用的绝缘块，其特征在于：相邻的上绝缘环(12)和下绝缘环(22)之间的缝隙的宽度为2mm。
5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用的绝缘块，其特征在于：上支撑柱(11)底面设置凸起(13)，下支撑柱(21)顶面设置容纳凸起(13)的凹槽，凸起(13)和凹槽通过过盈配合将上支撑柱(11)和下支撑柱(21)固定在一起。
6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用的绝缘块，其特征在于：上绝缘环(12)和下绝缘环(22)的竖直高度相同，上绝缘环(12)的竖直高度占上垫块(1)底面到下垫块(2)顶面的距离的3/4-4/5。
7.根据权利要求1所述的一种磁控溅射用的绝缘块，其特征在于：上垫块(1)、上支撑柱(11)和上绝缘环(12)一体成型，下垫块(2)、下支撑柱(21)和下绝缘环(22)一体成型。
8.根据权利要求7所述的一种磁控溅射用的绝缘块，其特征在于：上垫块(1)和下垫块(2)均采用赛钢材料制成。
9.一种磁控溅射设备，其特征在于：包括上述权利要求1-8任一项所述的绝缘块，下垫块(2)固定在腔体(4)底面，上垫块(1)可拆卸的固定在下垫块(2)上，底板(3)设置在上垫块(1)上。
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