[实用新型]一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置有效

专利信息
申请号: 201920630996.2 申请日: 2019-05-06
公开(公告)号: CN209974867U 公开(公告)日: 2020-01-21
发明(设计)人: 陈开龙 申请(专利权)人: 深圳市沃克力技术有限公司
主分类号: C23C14/02 分类号: C23C14/02
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518111 广东省深圳市龙岗*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 清洗罐 清洗 离子源 本实用新型 罐内壁 搅拌杆 搅拌件 驱动件 超声波发生器 真空镀膜设备 离子源清洗 超声清洗 开口设置 连通设置 驱动电机 溶液反应 上端固定 物体分离 右侧内壁 出料件 出液管 换能器 清洗刷 驱动端 支撑柱 上端 附着 下端 开口 延伸 贯穿 配合 应用
【说明书】:

实用新型公开了一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置,包括清洗罐,清洗罐上端设有开口,清洗罐上端固定连接有驱动件,驱动件的驱动端固定连接有搅拌件,搅拌件贯穿开口设置并延伸至清洗罐内,清洗罐靠近底部的右侧内壁上连通设置有出液管,清洗罐底部上设有出料件,清洗罐下端固定连接有若干支撑柱。本实用新型通过驱动电机带动若干搅拌杆对清洗罐内的溶液进行搅拌,使得溶液与物体上的离子源充分反应,同时搅拌杆上的清洗刷能够在搅拌中对清洗罐内壁进行刷洗,防止离子源附着在清洗罐内壁上,通过超声波发生器和换能器,配合物体和溶液反应时进行超声清洗,使得离子源能够快速与物体分离,提升清洗的效率。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜设备技术领域,尤其涉及一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置。

背景技术

真空镀膜是一种由物理方法产生薄膜材料的技术,在真空室内材料的原子从加热源离析出来打到被镀物体的表面上,在真空中制备膜层,包括镀制晶态的金属、半导体、绝缘体等单质或化合物膜,虽然化学汽相沉积也采用减压、低压或等离子体等真空手段,但一般真空镀膜是指用物理的方法沉积薄膜。

众所周知,在沉积成膜之前,需要利用等离子直流源对表面进行预处理,导致被处理的物体表面存在异物,且难以清除干净,现提出一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置来解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在的缺点,而提出的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置,包括清洗罐,所述清洗罐上端设有开口,所述清洗罐上端固定连接有驱动件,所述驱动件的驱动端固定连接有搅拌件,所述搅拌件贯穿开口设置并延伸至清洗罐内,所述清洗罐靠近底部的右侧内壁上连通设置有出液管,所述清洗罐底部上设有出料件,所述清洗罐下端固定连接有若干支撑柱,左侧两根所述支撑柱的左端侧壁上固定连接有清洗件,所述清洗件贯穿清洗罐左侧内壁设置。

优选地,所述驱动件包括固定连接于清洗罐上端的U型板,所述U型板的开口朝下设置,所述U型板的顶面上固定连接有驱动电机,所述驱动电机的驱动轴竖直朝下设置,所述搅拌件固定连接于驱动电机的驱动轴上。

优选地,所述搅拌件包括固定连接于驱动电机驱动轴上的连接杆,所述连接杆贯穿开口设置并延伸至清洗罐内,所述连接杆位于清洗罐内的一端环形侧壁上固定连接有若干搅拌杆。

优选地,若干所述搅拌杆均呈倾斜设置,若干所述搅拌杆远离连接杆的一端上均固定连接有清洗刷,若干所述清洗刷远离搅拌杆的一端与清洗罐的内壁相抵接触。

优选地,所述出料件包括连通设置于清洗罐底部上出料管,所述出料管的下方设有盖板,所述出料管下端设有若干等间分布的插槽,所述盖板的上端固定连接有若干与插槽相匹配的插块,若干所述插块分别插设于若干插槽内,所述盖板的上端固定连接有密封环,所述密封环套接于出料管上。

优选地,所述清洗件包括固定连接于左侧两根支撑柱左端侧壁上的支撑板,所述支撑板的上端放置有超声波发生器,所述超声波发生器的输出端连通设置有连接管,所述连接管远离超声波发生器的一端贯穿清洗罐左侧内壁设置,所述连接管位于清洗罐内的一端上固定连接有换能器。

本实用新型与现有技术相比,其有益效果为:

1、通过驱动电机带动若干搅拌杆对清洗罐内的溶液进行搅拌,使得溶液与物体上的离子源充分反应,同时搅拌杆上的清洗刷能够在搅拌中对清洗罐内壁进行刷洗,防止离子源附着在清洗罐内壁上。

2、通过超声波发生器和换能器,配合物体和溶液反应时进行超声清洗,使得离子源能够快速与物体分离,提升清洗的效率。

附图说明

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