[实用新型]一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置

权利要求书

1.一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，包括清洗罐(1)，其特征在于，所述清洗罐(1)上端设有开口(2)，所述清洗罐(1)上端固定连接有驱动件(3)，所述驱动件(3)的驱动端固定连接有搅拌件(4)，所述搅拌件(4)贯穿开口(2)设置并延伸至清洗罐(1)内，所述清洗罐(1)靠近底部的右侧内壁上连通设置有出液管(5)，所述清洗罐(1)底部上设有出料件(6)，所述清洗罐(1)下端固定连接有若干支撑柱(7)，左侧两根所述支撑柱(7)的左端侧壁上固定连接有清洗件(8)，所述清洗件(8)贯穿清洗罐(1)左侧内壁设置。

2.根据权利要求1所述的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于，所述驱动件(3)包括固定连接于清洗罐(1)上端的U型板(9)，所述U型板(9)的开口朝下设置，所述U型板(9)的顶面上固定连接有驱动电机(10)，所述驱动电机(10)的驱动轴竖直朝下设置，所述搅拌件(4)固定连接于驱动电机(10)的驱动轴上。

3.根据权利要求2所述的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于，所述搅拌件(4)包括固定连接于驱动电机(10)驱动轴上的连接杆(11)，所述连接杆(11)贯穿开口(2)设置并延伸至清洗罐(1)内，所述连接杆(11)位于清洗罐(1)内的一端环形侧壁上固定连接有若干搅拌杆(12)。

4.根据权利要求3所述的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于，若干所述搅拌杆(12)均呈倾斜设置，若干所述搅拌杆(12)远离连接杆(11)的一端上均固定连接有清洗刷(13)，若干所述清洗刷(13)远离搅拌杆(12)的一端与清洗罐(1)的内壁相抵接触。

5.根据权利要求1所述的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于，所述出料件(6)包括连通设置于清洗罐(1)底部上出料管(14)，所述出料管(14)的下方设有盖板(15)，所述出料管(14)下端设有若干等间分布的插槽(16)，所述盖板(15)的上端固定连接有若干与插槽(16)相匹配的插块(17)，若干所述插块(17)分别插设于若干插槽(16)内，所述盖板(15)的上端固定连接有密封环(18)，所述密封环(18)套接于出料管(14)上。

6.根据权利要求1所述的一种应用在真空镀膜设备中的离子源清洗装置，其特征在于，所述清洗件(8)包括固定连接于左侧两根支撑柱(7)左端侧壁上的支撑板(19)，所述支撑板(19)的上端放置有超声波发生器(20)，所述超声波发生器(20)的输出端连通设置有连接管(21)，所述连接管(21)远离超声波发生器(20)的一端贯穿清洗罐(1)左侧内壁设置，所述连接管(21)位于清洗罐(1)内的一端上固定连接有换能器(22)。