[实用新型]靶材制作装置

说明书

本申请提供一种靶材制作装置，包括熔炼室和设置在所述熔炼室一侧的雾化室，所述熔炼室设有导流管，所述导流管一端由熔炼室通入熔融的靶材原料，所述导流管另一端延伸到雾化室内，所述雾化室内固设有靶材固定件，所述导流管朝向所述靶材固定件方向，所述导流管外侧套设有雾化喷盘，所述雾化喷盘与外界惰性气体气源连通。本申请中，采用雾化喷盘与导流管配合构成二流体结构将靶材熔液雾化，成型的金属颗粒被高速气流加速后撞击靶材衬底并沉积在上面，形成靶材，生产效率高，生产工序少，靶材原料利用率高。

技术领域

本申请靶材生产设备技术领域，尤其是涉及一种气雾化法直接制备喷涂靶材的装置。

背景技术

在喷涂靶材生产中，目前喷涂靶材常用的制备方法是先通过气雾化制粉法将金属原料制成金属或者合金粉末，然后将制得的粉末通过筛分法对粉末进行分级，再将适合粒径的粉末用等冷喷涂、等离子喷涂或者其它式将材料在衬底上成型。在整个靶材生产过程中生产步骤多，工序复杂，造成生产周期长，成本高。多工序生产容易引入污染物，较难管控靶材中杂质元素含量。靶材喷涂可用的粉末粒径范围小(冷喷涂一般采用30μm-100μm粒径范围，等离子喷涂一般采用20μm-200μm粒径范围粉末)，粉末沉积率低(冷喷涂沉积率一般在50％-70％，等离子喷涂沉积率70％-85％)，喷涂会造成大量粉末浪费，靶材生产成本高。

发明内容

为了弥补上述靶材生产中的不足，本申请提出一种靶材制作装置。

其技术方案为：一种靶材制作装置，包括熔炼室和设置在所述熔炼室一侧的雾化室，

所述熔炼室设有导流管，所述导流管一端由熔炼室通入熔融的靶材原料，所述导流管另一端延伸到雾化室内，所述雾化室内固设有靶材固定件，所述导流管朝向所述靶材固定件方向，所述导流管外侧套设有雾化喷盘，所述雾化喷盘与外界惰性气体气源连通。

本申请中，采用雾化喷盘与导流管配合构成二流体结构将靶材熔液雾化，成型的金属颗粒被高速气流加速后撞击靶材衬底并沉积在上面，形成靶材，生产效率高，生产工序少，靶材原料利用率高。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例的技术方案，下面将对本申请实施例描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获取其他的附图。

图1为本申请的一种实施方式的结构示意图；

图2为本申请的导流管与雾化喷盘的一种实施方式的结构示意图；

图3为本申请的靶材固定件的一种实施方式的结构示意图。

具体实施方式